實(shí)驗(yàn)室用小型蒸發(fā)鍍膜機(jī)

用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機(jī)。蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。 ?真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 ?真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，小型真空鍍膜裝置，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 ?為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)裝置，小型真空鍍膜裝置生產(chǎn)商，如用行星運(yùn)動(dòng)方式，這種運(yùn)動(dòng)方式成膜均勻性好，臺(tái)階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動(dòng)方式。 ?排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時(shí)間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。 ?蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設(shè)備。電氣設(shè)備包括測量真空和膜層厚度及控制臺(tái)等。小型真空鍍膜裝置

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蒸發(fā)源材料如何選擇

北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、制造，集真空鍍膜設(shè)備、真空應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及工藝的研發(fā)、制造、銷售、服務(wù)于一體的高新技術(shù)企業(yè)。主營產(chǎn)品蒸發(fā)鍍膜機(jī)，磁控濺射鍍膜機(jī)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)，多弧離子濺射鍍膜機(jī)，熱絲CVD設(shè)備，裝飾鍍膜機(jī)，硬質(zhì)涂層設(shè)備等。

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蒸發(fā)源材料如何選擇

真空鍍膜鍍膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于汽車、電子、印刷等行業(yè)，真空鍍膜機(jī)鍍膜主要依靠蒸發(fā)源分離出分子，沉淀到待鍍物件的表面，形成薄膜。下面，真空鍍膜機(jī)廠家?guī)Т蠹胰チ私庖幌抡婵斟兡ぶ凶鳛檎舭l(fā)源的材料需要滿足哪些要求。 ? ?因?yàn)殄兡r(shí)，蒸發(fā)的溫度非常高，小型真空鍍膜裝置生產(chǎn)商，為了避免蒸發(fā)源材料熔解，選擇材料時(shí)，要選擇熔點(diǎn)高于蒸發(fā)溫度的。為了防止在鍍膜過程中帶入雜質(zhì)，蒸發(fā)源材料的平衡氣壓要足夠低，低于真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)的平衡氣壓，保證蒸發(fā)源材料自身的蒸發(fā)量非常非常少，以免污染鍍膜成品。不能選擇高溫下易分解的材料，為保證蒸發(fā)源材料化學(xué)性能穩(wěn)定，要選擇高溫下不會(huì)和鍍膜材料發(fā)生反應(yīng)的材料。

綜上所述，真空鍍膜的蒸發(fā)源材料需要熔點(diǎn)高，化學(xué)性能穩(wěn)定，自蒸發(fā)量少的材料。

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真空鍍膜機(jī)操作程序

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦ 開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕'1'旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。⑧ 當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。⑨ 真空鍍膜機(jī)開通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。⑩ 低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開高壓閥（閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn)）。? 等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開規(guī)管燈絲開關(guān)。a. 發(fā)射、零點(diǎn)測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。b. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。? 旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”，使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。? 發(fā)射、零點(diǎn)、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點(diǎn)位置。? 旋轉(zhuǎn)零點(diǎn)調(diào)節(jié)鈕“10”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。? 發(fā)射、零點(diǎn)、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測量位置。? 旋轉(zhuǎn)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)節(jié)鈕“3”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。? 旋轉(zhuǎn)“倍加器”開關(guān)鈕“8”至指向10-12，當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針左移超過1時(shí)，再把“倍加器”開關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。? 當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針移動(dòng)超過6.7Pa時(shí)，開工件旋轉(zhuǎn)鈕開關(guān)，鐘罩內(nèi)被鍍件PVDF膜轉(zhuǎn)動(dòng)。? 開蒸發(fā)鈕開關(guān)。把電流分插塞插入蒸發(fā)電極分配孔內(nèi)（設(shè)有1、 2、 3、 4孔，可插入任意一孔）。? 右手旋轉(zhuǎn)右側(cè)調(diào)壓器手輪，慢慢旋轉(zhuǎn)升壓。a. 從視鏡窗口觀察鎢螺旋加熱子的加熱溫度顏色變化情況。b. 當(dāng)鎢螺旋加熱子顏色變成黃橙色，鋁絲開始熔化時(shí)，左手操作擋板鈕，移開鎢螺旋上方擋板。c. 鋁絲全部熔化蒸發(fā)，擋板回原位。d. 右手旋轉(zhuǎn)調(diào)壓器手輪回零位。第1次蒸鍍工作完成。21. 如果再想蒸鍍一次（為了增加電極金屬層厚度）：把電流分插塞撥出插入另一個(gè)電極分配孔。重復(fù)?操作動(dòng)作。22. 關(guān)閉規(guī)管燈絲開關(guān)。關(guān)閉高壓閥（逆時(shí)針轉(zhuǎn)手柄）。關(guān)閉工件旋轉(zhuǎn)。關(guān)閉蒸發(fā)。旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵鈕至指向擴(kuò)散泵位置。23. 低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時(shí)間，當(dāng)沒有氣.聲時(shí)，升鐘罩。24. 鎢螺旋加熱子內(nèi)加鋁絲。PVDF薄膜調(diào)換另一面向下 （原下面已鍍一層鋁膜面向上）。緊固在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。25. 落鐘罩。開機(jī)械泵。a. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。b. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡怼?”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。c. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。d. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡怼?”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到6.7Pa時(shí)，開高壓閥。旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。e. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡怼?”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)到指向0.1Pa時(shí)，開規(guī)管燈絲。f. 由?開始重復(fù)操作至? 。26. PVDF薄膜蒸鍍完鋁層后，按順序關(guān)閉規(guī)管燈絲、高壓閥、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣，充氣完畢后升鐘罩。取出工件，做好鐘罩內(nèi)清理工作。a. 落下鐘罩。b. 開機(jī)械泵，抽3~5min，停機(jī)械泵。c. 切斷供電總開關(guān)。d. 1h后再關(guān)閉冷卻水。操作全部完成。27. 正常生產(chǎn)中，如遇到突然停電時(shí)，要立即切斷高真空測量，關(guān)閉規(guī)管燈絲，高壓閥、低壓閥拉出。來電后，先讓機(jī)械泵啟動(dòng)工作3~5min后，再轉(zhuǎn)入正常生產(chǎn)。小型真空鍍膜裝置

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