名  稱：鈦   	熔  點(diǎn)：1668℃	　	　
符  號(hào)：Ti   	沸  點(diǎn)：3277℃                       	

原子量：47.88	密  度：4.506g/cm3	

純  度：2N5 3N5 4N 4N5 5N 	

產(chǎn)品規(guī)格	狀態(tài)	純度	尺寸	　	　	　	　	　

靶材	4N 4N5 5N 	根據(jù)要求定制	


粉末	2N5   100目-800目


顆粒 棒狀	3N5~5N	φ3*3mm  6*6mm 	


絲狀	3N5~5N	φ0.1-5mm	


片狀	3N5~5N	1-10mm	

　	　	　	　	　	　	　	　	　
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)	可提供4N5，5N高純鈦，采用美國(guó)進(jìn)口原料。主要用于生產(chǎn)高純度濺射靶材和金屬顆粒，用于高純度合金熔煉，蒸發(fā)鍍膜等領(lǐng)域。
產(chǎn)品用途	磁控濺射鍍膜材料等
產(chǎn)品附件	正式報(bào)價(jià)單/購(gòu)銷合同/裝箱單/材質(zhì)分析檢測(cè)單/正規(guī)發(fā)  票
產(chǎn)品包裝	真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝
制作工藝	主要制備方法有：碘化法，熔鹽電解法，電子束熔煉法，電子束區(qū)熔法等。
研創(chuàng)新材供應(yīng)高純鈦靶材 尺寸按客戶要求定做 高純顆粒 高純粉末 純度99.9-99.999，

研創(chuàng)新材高純?yōu)R射靶材相關(guān)產(chǎn)品。鋁靶Al，銀靶Ag，金靶Au，*靶Co，鉬靶Mo，鉻靶Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，鈦靶Ti，鋅靶Zn，鎂靶Mg，鈮靶Nb，錫靶Sn，銦靶In，鐵靶Fe，鋯靶Zr，鉑靶Pt，鉭靶Ta，鍺靶Ge，硅靶Si，鎢靶W，錳靶Mn，鉿靶Hf，釓靶Gd，釤靶Sm，鏑靶Dy，鈰靶Ce，釔靶Y，鑭靶La，錸靶Re，釕靶Ru，鈀靶Pd，銠靶Rh，鉍靶Bi，鈦鋁Ti-Al，鋁硅Al-Si，鋁銅Al-Cu，鋁鈦Al-Ti，銀銅Ag-Cu，鋁鎂Al-Mg，鈷鐵硼Co-Fe-B，銅銦*Cu-In-Ga，鐵錳Fe-Mn，銦錫In-Sn，鈷鐵Co-Fe，鎳鈷Ni-Co，鎳鐵Ni-Fe，鎳鉻Ni-Cr，鎳鋯Ni-Zr，鎳鋁Ni-Al，鎳銅Ni-Cu，鎳釩Ni-V，鎢鈦W-Ti，鋅鋁Zn-Al，鋁鈦硼Al-Ti-B，鋁鈧Al-Sc，釩鋁鐵V-Al-Fe，銅錫Cu-Sn，鋯鋁Zr-Al，釩鋁V-Al，硼鐵B-Fe等 

　　陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4，氮化鋁靶AIN，氮化硼靶BN，氮化鉻靶材CrN，氮化鋯靶ZrN，氮化鈦靶TiN，碲化鎘靶CdTe，二硅化鉬靶MoSi2，二硫化鉬MoS2，二硼化鋯靶ZrB2，二硼化鈦靶TiO2，二氧化鋯靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化錳MnO2，二氧化鈰靶CeO2，二氧化鈦靶TiO2，二氧化錫靶SnO2，氟化鋇靶BaF2，氟化鈣靶CaF2，氟化鋁靶AlF3，氟化鎂靶MgF2，氟化鈰靶CeF2，硫化鎘靶CdS，硫化亞銅Cu2S，硫化鋅靶ZnS，硼靶B，硼化鉿靶HfB2，三氧化二鉻靶Cr2O3，三氧化二錳Mn2O3，三氧化鎢靶WO3，鈦酸鋇靶BaTiO3，鈦酸鐠靶PrTiO3，石墨靶C，碳化鋯靶ZrC，碳化鉻靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化鉿靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化鈦靶TiC，碳化鎢靶W2C，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鉺靶Er2O3，氧化鈷靶CoO，氧化鉿靶HfO2，氧化鎵靶Ca2O3，氧化鈧靶Sc2O3，氧化鋁靶Al2O3，氧化鎂靶MgO，氧化鎳靶NiO，氧化釹靶Nd2O3，氧化鉭靶Ta2O5，氧化鐵靶Fe2O3，氧化銅靶CuO，氧化鋅靶ZnO，氧化釔靶Y2O3，氧化銦靶In2O3，ITO靶（In2O3＋SnO2），AZO靶（ZnO＋AL203），LGZO靶，氧化硅鉿靶HfO2