真空電鍍設(shè)備技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支，真空電鍍設(shè)備已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空電鍍設(shè)備所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。真空電鍍設(shè)備在電子學(xué)方面真空電鍍設(shè)備更占有極為重要的地位。真空電鍍設(shè)備包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。真空電鍍設(shè)備作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。

如今在許多電鍍加工廠，相對于傳統(tǒng)的電鍍工藝，真空電鍍加工技術(shù)具有三大長處：

1、堆積資料廣泛：可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法堆積的低電位金屬，通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，并且能夠根據(jù)需要規(guī)劃涂層系統(tǒng).

2、節(jié)省金屬資料：因為真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕功能等適當(dāng)優(yōu)良，堆積的真空電鍍鍍層能夠遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于慣例濕法電鍍鍍層，電鍍公司，到達(dá)節(jié)省的意圖.

3、無環(huán)境污染：目前國家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保，復(fù)合電鍍，因為一切鍍層資料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面，沒有溶液污染，淮南電鍍，所以對環(huán)境的損害適當(dāng)小。

真空電鍍加工維護(hù)注意事項有哪些？

一、真空電鍍進(jìn)行2～3次后，必須及時清洗鐘罩及鍍膜室內(nèi)零件，避免蒸發(fā)物質(zhì)大量進(jìn)入真空系統(tǒng)而損壞真空性能。

二、擴散泵連續(xù)工作時，扣下鐘罩后必須先對鍍膜室抽低真空，當(dāng)達(dá)到后再開高閥，決不允許直接抽高真空，以免擴散泵油氧化。

三、真空電鍍加工結(jié)束時，塑膠電鍍廠，應(yīng)首先切斷高真空測量，再關(guān)高閥，然后充氣以免電離規(guī)管損壞及擴散泵油氧化。

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