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    微弧氧化技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)-日照微弧氧化工藝-微弧氧化技術(shù)

  • 作者:日照微弧技術(shù)有限公司 2019-04-03 02:20 600
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    溫度對(duì)微弧氧化的影響

    ? ? ? ?微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會(huì)形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化技術(shù),微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源


    微弧氧化抹的特點(diǎn)

    ? ? ? ?微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(qiáng),微弧氧化技術(shù)要求,絕緣性好,膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄,要求對(duì)放電后的電參數(shù)控制比較好,大電流、高電壓對(duì)供電電源提出了高要求,由于對(duì)微弧氧化本質(zhì)認(rèn)識(shí)限制,使得電源的設(shè)計(jì)及制造仍停留在經(jīng)驗(yàn)摸索層面上,帶有很大的盲目性。采用低電壓(70V-100V方式,配置特質(zhì)的電解液,通過瞬時(shí)的等離子光化學(xué)反應(yīng),低電壓微弧氧化技術(shù),高溫離子尚未損害到母材表層的情況下,母材外表形成一層硬質(zhì)氧化維護(hù)膜,從而達(dá)到對(duì)母材表面處理的效果。



    微弧氧化手電解質(zhì)溶液及其組分的影響

    ? ? ? ?微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù),所得膜層的性質(zhì)也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液(如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等),其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態(tài)。溶液的pH范圍一般在9~13之間。根據(jù)膜層性質(zhì)的需要,可添加一些有機(jī)或無機(jī)鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下,電解質(zhì)濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。


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    日照微弧技術(shù)有限公司坐落在山東省日照市高新區(qū)創(chuàng)業(yè)中心,是輕金屬表面改性研發(fā)的專業(yè)技術(shù)公司。公司主要研發(fā)微弧氧化電源、微弧氧化電解液配方、微弧氧化工藝;微弧氧化復(fù)合膜、功能膜;各種封閉劑;微弧氧化生產(chǎn)線的設(shè)計(jì)及相關(guān)設(shè)備、儀器的配套;內(nèi)孔的柔性拋光工藝、拋光介質(zhì)及拋光配套設(shè)備等。公司擁有一支技術(shù)過硬、研發(fā)能力強(qiáng)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),可根據(jù)用戶不同要求,設(shè)計(jì)開發(fā)耐蝕膜、耐磨膜、絕緣膜、催化膜等相關(guān)功能膜的制備,以滿足用戶個(gè)性化的需求。公司還開發(fā)了掃描式、無印痕、大面積輕金屬微弧氧化處理工藝及配套設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了在不增加電源功率的條件下也可進(jìn)行超大型部件的微弧氧化處理;公司研發(fā)的掃描式、無槽微弧氧化處理技術(shù),可用于外場(chǎng)微弧氧化的局部修復(fù)或局部防腐、耐磨處理。公司設(shè)計(jì)開發(fā)的全自動(dòng)、環(huán)鏈?zhǔn)轿⒒⊙趸a(chǎn)線,其效率比現(xiàn)有的直列式生產(chǎn)線提高20-30%,特別適用于批量化生產(chǎn)。公司開發(fā)了以食品添加劑為主的第二代中性、長(zhǎng)效電解液配方,無環(huán)保限制元素,綠色環(huán)保;公司竭誠歡迎各界朋友,把你們的難題交給我們,我們會(huì)竭盡全力為您服務(wù),合作共贏!


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