光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和電路板行業(yè)的發(fā)展影響，與下游終端行業(yè)的主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)i療電子等產(chǎn)品的發(fā)展趨勢(shì)密切相關(guān)，預(yù)計(jì)未來幾年我國光掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細(xì)化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展。2011年我國光掩膜版生產(chǎn)規(guī)模為0.87萬平方米，2016年生產(chǎn)規(guī)模增長至1.69萬平方米，復(fù)合增長率達(dá)到14.20%。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻是制造半導(dǎo)體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標(biāo)。光罩是光刻工藝中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。如果光刻版不潔凈，存在污染顆粒，這些顆粒就會(huì)被復(fù)i制到硅片表面的光刻膠上，造成器件性能的下降。然而，光刻版在使用過程中不可避免的會(huì)粘上灰塵、光刻膠等污染物，這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈，必須定期對(duì)光刻版進(jìn)行清洗，而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。

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在接觸式光學(xué)微影技術(shù)中，光罩表面的遮光圖案會(huì)與基板上的光阻層接觸摩擦，容易使得遮光圖案耗損使得光罩使用壽命縮短。另外，當(dāng)涂布有光阻層的基板表面不是非常平整時(shí)，光罩與光阻層會(huì)產(chǎn)生不確定的空隙與距離，光罩，而造成光線的散射與繞射，進(jìn)而造成曝光的尺寸誤差，并且造成光阻層淺層部分的側(cè)向曝光范圍擴(kuò)大，因而無法制作出高深寬比的光阻結(jié)構(gòu)。

蘇州制版位于蘇州工業(yè)園區(qū)生物納米園，是集研究、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售于一體，專業(yè)制作高精度掩膜版的企業(yè)，擁有高標(biāo)準(zhǔn)的全凈化廠房，優(yōu)i秀的高素質(zhì)人才、專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。