什么是光刻掩模板

在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精i確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，掩膜版，稱為光刻掩模版。

　　半導(dǎo)體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻工藝，在半導(dǎo)體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導(dǎo)電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能精i確套準(zhǔn)的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。

如果提出印刷要求的客戶沒有文檔，只提供一個(gè)實(shí)樣，實(shí)樣如果是四色i圖案的，很復(fù)雜的，這時(shí)就需要先拿去滾筒掃描，掃描之后就要電腦制作，俗稱電腦制版，這里制的版就是指菲林，(菲林:就是膠片，和照相用的膠卷一樣的，術(shù)語就叫菲林。你應(yīng)該有在報(bào)紙上看過，某某一出現(xiàn)，抹殺了不少攝影師的菲林，同一個(gè)意思) 在用電腦制作好后，根據(jù)數(shù)量，規(guī)格等等來拚版，就是拚在一紙張的開數(shù)里面。比如四開，六開等，然后就是輸出菲林。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

什么是掩膜

首先我們從物理的角度來看看mask到底是什么過程。

在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩?！保渥饔檬牵涸诠杵线x定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴(kuò)散將只影響選定的區(qū)域以外的區(qū)域。

圖像掩膜與其類似，用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。

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蘇州制版位于蘇州工業(yè)園區(qū)生物納米園，是集研究、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售于一體，專業(yè)制作高精度掩膜版的企業(yè)，擁有高標(biāo)準(zhǔn)的全凈化廠房，優(yōu)i秀的高素質(zhì)人才、專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。