五、曝光

在這一步中，將使用特定波長的光對覆蓋襯底的光刻膠進行選擇性地照射。光刻膠中的感光劑會發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)，從而使正光刻膠被照射區(qū)域（感光區(qū)域）、負光刻膠未被照射的區(qū)域（非感光區(qū)）化學(xué)成分發(fā)生變化。這些化學(xué)成分發(fā)生變化的區(qū)域，在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。

在接受光照后，正性光刻膠中的感光劑DQ會發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)，變?yōu)橐蚁┩?，進口光刻膠 負膠，并進一步水解為茚并羧酸（Indene-Carboxylic-Acid， CA），羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍，產(chǎn)生的羧酸同時還會促進酚醛樹脂的溶解。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度，就可以進行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。

曝光方法：

a、接觸式曝光（Contact Printing）掩膜板直接與光刻膠層接觸。

b、接近式曝光（Proximity Printing）掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。

c、投影式曝光（Projection Printing）。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現(xiàn)曝光。

d、步進式曝光(Stepper)

正性光刻膠

正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性，當(dāng)沒有溶解抑制劑存在時，進口光刻膠 去膠，線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中，感光劑是光敏化合物，最常見的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一種強烈的溶解抑制劑，進口光刻膠 廠家，降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻膠中化學(xué)分解，成為溶解度增強劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應(yīng)會在DNQ中產(chǎn)生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度，光刻膠，所以生成的圖形具有良好的分辨率。

下游發(fā)展趨勢

光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%到50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。2016年全球半導(dǎo)體用光刻膠及配套材料市場分別達到14.5億美元和19.1億美元，分別較2015年同比增長9.0%和8.0%。預(yù)計2017和2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場將分別達到15.3億美元和15.7億美元。隨著12寸先進技術(shù)節(jié)點生產(chǎn)線的興建和多次曝光工藝的大量應(yīng)用，193nm及其它先進光刻膠的需求量將快速增加

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司位于北京市北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，毗鄰中芯國際，京東方，RFMD------等知名半導(dǎo)體、LCD工廠。在半導(dǎo)體，LED，TFT-LCD，太陽能光伏領(lǐng)域具有十年以上的進口設(shè)備代理和安裝維修經(jīng)驗。是一家致力于LED,MEMS,光電半導(dǎo)體，太陽能光伏工廠及實驗室所需設(shè)備、耗材的全套解決方案提供商，專業(yè)經(jīng)銷歐美日韓有名品牌光電半導(dǎo)體制程儀器設(shè)備，零附件，耗材，對中國國內(nèi)廣大客戶提供全面的產(chǎn)品咨詢和技術(shù)銷售服務(wù)。一直專注于微電子、微細加工及半導(dǎo)體工藝等領(lǐng)域設(shè)備的研發(fā),是此領(lǐng)域集技術(shù)開發(fā)、技術(shù)支持及服務(wù)營銷為一體的高新技術(shù)企業(yè).公司主要產(chǎn)品有Futurrex光刻膠、勻膠機(SpinCoater)、光刻機(曝光機-LithographySystem)、KOSAKA表面輪廓儀等，其廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微機械、新能源等領(lǐng)域，適用于大專院校、科研機構(gòu)和相關(guān)行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)進行教學(xué)實驗、科學(xué)研究和產(chǎn)品開發(fā)與批量生產(chǎn)，為光電半導(dǎo)體化工實驗室全方面解決方案供應(yīng)商。