光刻工藝主要性一

光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復(fù)雜等特征，進(jìn)口光刻膠 去膠，還需要相應(yīng)光刻機(jī)與之配對(duì)調(diào)試。一般情況下，一個(gè)芯片在制造過(guò)程中需要進(jìn)行10~50道光刻過(guò)程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過(guò)程對(duì)光刻膠的具體要求也不一樣，即使類(lèi)似的光刻過(guò)程，不同的廠商也會(huì)有不同的要求。

針對(duì)不同應(yīng)用需求，光刻膠的品種非常多，這些差異主要通過(guò)調(diào)整光刻膠的配方來(lái)實(shí)現(xiàn)。因此，通過(guò)調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化的應(yīng)用需求，是光刻膠制造商最核心的技術(shù)。

此外，由于光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應(yīng)。光刻分辨率與曝光波長(zhǎng)、數(shù)值孔徑和工藝系數(shù)相關(guān)。

正負(fù)光刻膠

光刻膠分負(fù)性膠和正性膠兩類(lèi)。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。正膠的圖像與掩模板的圖像是一致的，進(jìn)口光刻膠 廠家，故此叫正膠，利用這種性能，將光刻膠作涂層，進(jìn)口光刻膠，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。

一般來(lái)說(shuō)線寬的用正膠，線窄的用負(fù)膠!?正性光刻膠比負(fù)性的精度要高，負(fù)膠顯影后圖形有漲縮，負(fù)性膠限制在2~3μm.，而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm?導(dǎo)致影響精度，進(jìn)口光刻膠 顯影，正性膠則無(wú)這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率，但是薄負(fù)性膠會(huì)影響針孔。同種厚度的正負(fù)膠，在對(duì)于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌，正膠難以企及。賽米萊德提供美國(guó)Futurrex光刻膠的供應(yīng)與技術(shù)參數(shù)。

光刻膠市場(chǎng)

據(jù)統(tǒng)計(jì)資料顯示，2017年中國(guó)光刻膠行業(yè)產(chǎn)量達(dá)到7.56萬(wàn)噸，較2016年增加0.29萬(wàn)噸，其中，中國(guó)本土光刻膠產(chǎn)量為4.41萬(wàn)噸，與7.99萬(wàn)噸的需求量差異較大，說(shuō)明我國(guó)供給能力還需提升。

國(guó)內(nèi)企業(yè)的光刻膠產(chǎn)品目前還主要用于PCB領(lǐng)域，代表企業(yè)有晶瑞股份、科華微電子。

在半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域，隨著汽車(chē)電子、物聯(lián)網(wǎng)等發(fā)展，會(huì)在一定程度上增加對(duì)G線、I線的需求，利好G線、I線等生產(chǎn)企業(yè)。預(yù)計(jì)G線正膠今后將占據(jù)50%以上市場(chǎng)份額，I線正膠將占據(jù)40%左右的市場(chǎng)份額，DUV等其他光刻膠約占10%市場(chǎng)份額，給予北京科華、蘇州瑞紅等國(guó)內(nèi)公司及美國(guó)futurrex光刻膠較大市場(chǎng)機(jī)會(huì)。

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司位于北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，毗鄰中芯國(guó)際，京東方，RFMD------等知名半導(dǎo)體、LCD工廠。在半導(dǎo)體，LED，TFT-LCD，太陽(yáng)能光伏領(lǐng)域具有十年以上的進(jìn)口設(shè)備代理和安裝維修經(jīng)驗(yàn)。是一家致力于LED,MEMS,光電半導(dǎo)體，太陽(yáng)能光伏工廠及實(shí)驗(yàn)室所需設(shè)備、耗材的全套解決方案提供商，專(zhuān)業(yè)經(jīng)銷(xiāo)歐美日韓有名品牌光電半導(dǎo)體制程儀器設(shè)備，零附件，耗材，對(duì)中國(guó)國(guó)內(nèi)廣大客戶提供全面的產(chǎn)品咨詢(xún)和技術(shù)銷(xiāo)售服務(wù)。一直專(zhuān)注于微電子、微細(xì)加工及半導(dǎo)體工藝等領(lǐng)域設(shè)備的研發(fā),是此領(lǐng)域集技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)支持及服務(wù)營(yíng)銷(xiāo)為一體的高新技術(shù)企業(yè).公司主要產(chǎn)品有Futurrex光刻膠、勻膠機(jī)(SpinCoater)、光刻機(jī)(曝光機(jī)-LithographySystem)、KOSAKA表面輪廓儀等，其廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新能源等領(lǐng)域，適用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)和相關(guān)行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行教學(xué)實(shí)驗(yàn)、科學(xué)研究和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與批量生產(chǎn)，為光電半導(dǎo)體化工實(shí)驗(yàn)室全方面解決方案供應(yīng)商。