等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子，蘇州等離子表面處理、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，蘇州等離子表面處理，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)，蘇州等離子表面處理。 在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達(dá)到清洗目的．

等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個部分做一個陳述： 一、控制單元 國內(nèi)使用的等離子清洗機(jī)，包括國外進(jìn)口的，控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。 而控制單元又分為兩個大的部分： 1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的。 2）系統(tǒng)控制單元：分三種，按鈕控制（半自動、全自動）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制）。 二、真空腔體： 真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的： 1）不銹鋼真空腔體。 2）石英腔體。 三、真空泵： 真空泵分為兩種： 1）干泵。 2）油泵。

GY-QX系列等離子清洗機(jī)定位于工業(yè)生產(chǎn)型低溫等離子體處理設(shè)備，廣泛應(yīng)用于電子、太陽能、汽車、紡織、包裝印刷、生物醫(yī)療及通用行業(yè)，其特點為處理效率高、重復(fù)性和穩(wěn)定性良好，操作方便，工藝參數(shù)多樣性，執(zhí)行多樣化任務(wù)，適用于清洗、活化、提高粘結(jié)力、附著力及刻蝕等工藝，并可根據(jù)客戶不同需求量身定制專業(yè)、高 效、穩(wěn)定的解決方案，完美契合企業(yè)和公司的中大型生產(chǎn)需求。 等離子清洗機(jī)由反應(yīng)腔（又稱真空腔）、真空系統(tǒng)、放電系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)組成。 反應(yīng)腔由真空室和電極組成，是等離子體反應(yīng)空間，待處理物品置于反應(yīng)腔內(nèi)；真空系統(tǒng)由真空計、真空泵以及真空管路組成，負(fù)責(zé)將反應(yīng)腔內(nèi)的空氣抽凈并在工作時維持適當(dāng)?shù)恼婵斩?；放電系統(tǒng)為反應(yīng)腔提供信號和能量，以激發(fā)反應(yīng)腔內(nèi)的反應(yīng)氣體電離形成所需要的等離子體；電控系統(tǒng)的作用是按照比較好的工藝參數(shù)和步驟控制設(shè)備的動作過程，并維持工藝參數(shù)的穩(wěn)定；進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)主要由質(zhì)量流量計和電磁閥門組成，其作用是精確控制反應(yīng)氣體的進(jìn)氣流量，并維持工作期間所需要的真空度。

OPS Plasma是一家專業(yè)從事等離子表面處理，集設(shè)備開發(fā)與設(shè)備制造、工藝開發(fā)與方案解決為一體的高新技術(shù)企業(yè)。
OPS Plasma始建于2006年，專注于實驗型等離子體處理設(shè)備。2010年公司加大投資，擴(kuò)大規(guī)模，建立了蘇州市低溫等離子體工程技術(shù)研究中心和生產(chǎn)基地，蘇州奧米格機(jī)電科技有限公司正式更名為蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司，開始生產(chǎn)工業(yè)化Plasma設(shè)備。
OPS Plasma的創(chuàng)始人兼研發(fā)負(fù)責(zé)人王紅衛(wèi)博士，在德Fraunhofer-Gesellschaft留學(xué)期間積累了豐富的設(shè)計開發(fā)經(jīng)驗，由其帶領(lǐng)的研發(fā)和制造團(tuán)隊擁有10年以上的等離子系統(tǒng)設(shè)計經(jīng)驗和等離子設(shè)備制造經(jīng)驗，已成功開發(fā)出多款適用于不同行業(yè)的等離子處理設(shè)備。截止目前已申請國 家專利共64項（其中發(fā)明32項、實用新型31項、軟著1項），高新技術(shù)產(chǎn)品3項，并于2015年獲得高新技術(shù)企業(yè)的稱號。
OPS Plasma的設(shè)備廣 泛地應(yīng)用在光學(xué)電子、太陽能、半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、納米材料、及通用工業(yè)領(lǐng)域，銷往各大知名院校（如：清華大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、同濟(jì)大學(xué)、四川大學(xué)等）、科研機(jī)構(gòu)（如：中國科學(xué)院多個研究所、兵器集團(tuán)五三研究所等）和知名企業(yè)（如羅技、舜宇、綠點等）。全國范圍內(nèi)數(shù)百臺實驗設(shè)備和工業(yè)設(shè)備的良好運行，充分證明了OPS Plasma等離子系統(tǒng)的優(yōu)越品質(zhì)。
OPS Plasma本著“團(tuán)結(jié)共創(chuàng)輝煌，創(chuàng)新引領(lǐng)未來”的發(fā)展理念，以提供專業(yè)、優(yōu)質(zhì)的等離子表面處理解決方案為宗旨，專注于對技術(shù)、工藝、設(shè)備、服務(wù)四大環(huán)節(jié)的持續(xù)優(yōu)化與提升，為各行業(yè)提供專業(yè)、高 效、節(jié)能、環(huán)保的等離子表面處理解決方案，力爭成為全球行業(yè)領(lǐng)先的等離子應(yīng)用技術(shù)方案解決專家。