臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司高純氮化硅靶材 氮化硅顆粒 氮化硅粉末（Si3N4)
物理性質(zhì)	顏色	灰白色                 密度	3.44g/cm3
技術(shù)指標	純度	99.99%（4N）    致密度	＞99%
切面平整度	優(yōu)         公差	±0.1mm
折射率	2.1        透明波段	\
材質(zhì)	Si3N4          品牌	研創(chuàng)新材
產(chǎn)品規(guī)格	平面靶，可按客戶要求定制
單靶最大尺寸：300*150mm
制作工藝	真空燒結(jié)
適用儀器	磁控濺射
產(chǎn)品用途	耐熱涂層，用于火箭和原子能反應(yīng)堆，切割工具
產(chǎn)品優(yōu)點	1.不純物元素含量極低
2.抗震動及抗高溫特性
3.切割工具
產(chǎn)品認證	ISO9001
配套材料	氧化鈦靶、氧化銅靶、氧化鎳靶等陶瓷靶材
背靶服務(wù)	                           提供無氧銅、鉬靶綁定服務(wù)
包裝方式	真空包裝
運輸方式	韻達、順豐、EMS
付款方式	款到發(fā)貨
最小起訂量	1片    供貨能力	持續(xù)穩(wěn)定     交貨期	10天
 臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司高純靶材及鍍膜材料如下：1各種高純度金屬單質(zhì)包括金屬粉、金屬顆粒、金屬絲、金屬塊、金屬片等。產(chǎn)品包括：純鐵，銅，鋁，鉛，氮化硅（SiN)，氮化硅（SiN)，錫，鈷，鉻，釩，錳，鎂，鎘，鉍，銻，鈦，鋯，鉿，銦，硒，碲，鎵，鍺，錸，鎢，鉬，鉭，鈮，硼，硅，鈹，砷，貴金屬等的錠，棒材，絲材，板材，帶材，箔材，顆粒，粉末。
  2各種高純金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜材料。金屬靶材：鋁靶Al、銀靶Ag、鈷靶Co、鉻靶Cr、銅靶Cu、氮化硅（SiN)靶Ni、鈦靶Ti、氮化硅（SiN)靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶Zr、鈦鋁靶Ti、鋯靶Zr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、硅靶Si、鎢靶W、鉿靶Hf、釓靶Gd、釤靶Sm、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La 金靶Au 等。
  合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、氮化硅（SiN)鈷Ni-Co、氮化硅（SiN)鐵Ni-Fe、氮化硅（SiN)鉻Ni-Cr、氮化硅（SiN)鋯Ni-Zr、氮化硅（SiN)鋁Ni-Al、氮化硅（SiN)銅Ni-Cu、氮化硅（SiN)釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、氮化硅（SiN)鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁 V-Al 、 鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。
、 陶瓷靶材 
 　　ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化氮化硅（SiN)靶、硫化氮化硅（SiN)靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化氮化硅（SiN)靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化氮化硅（SiN)靶、等陶瓷靶材。產(chǎn)品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：科學(xué)研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學(xué)，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲等等。 
 注臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司所有產(chǎn)品規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做。