多弧離子真空鍍膜機(jī)的由來(lái)

我國(guó)在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面，對(duì)能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機(jī)械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國(guó)外先進(jìn)水平。同時(shí)，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機(jī)已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問(wèn)題。本技術(shù)的研發(fā)成功，將打破國(guó)內(nèi)高性能機(jī)械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國(guó)外技術(shù)的被動(dòng)局面；對(duì)提高我國(guó)裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個(gè)非常好的示范作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提高效率的示范作用，可替代部分原來(lái)電鍍的工藝，對(duì)環(huán)境保護(hù)起到很好的作用。

目前，國(guó)際上機(jī)械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術(shù)，但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問(wèn)題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應(yīng)用性能；特別是國(guó)內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問(wèn)題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過(guò)濾技術(shù)，雖可解決表面沉積的顆粒問(wèn)題，但沉積效率只有原來(lái)的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長(zhǎng)，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層；在進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜（如TiN、TiO2）時(shí)，由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差，必須過(guò)量通入反應(yīng)性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學(xué)反應(yīng)），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。

影響離子鍍膜層質(zhì)量的工藝參數(shù)

①基片偏壓.

離子鍍膜基片施加負(fù)偏壓后；各種離子和高能中性粒子流以較高的能量轟擊基片表面．基片負(fù)偏壓的提高，會(huì)使基片表面獲得更高的能量，可能形成偽擴(kuò)散層，提高膜層與基體的附著力，還可以改變膜層的組織、結(jié)構(gòu)和性能，如細(xì)化晶粒，圖2表明，隨著基片負(fù)偏壓的提高，膜層組織變細(xì)，但是，基片負(fù)偏壓的提高也會(huì)產(chǎn)生一些不利的影響，如反濺射作用的增加，使膜層表面受到刻蝕，使表面光潔程度降低，圖3表明了空心陰極離子鍍鉻時(shí)，基片負(fù)偏壓對(duì)鉻膜表面光澤度的影響，基片負(fù)偏壓的提高還會(huì)使沉積速率降低，使基片溫度升高，圖4表明了電弧離子鍍tin膜基片負(fù)偏壓對(duì)沉積速率的影響，因此，應(yīng)根據(jù)不同的離子鍍方法、不同的膜層及使用要求選擇適當(dāng)?shù)幕?fù)偏壓。

②鍍膜真空度和反應(yīng)氣體分壓.

離子鍍膜真空度對(duì)膜層組織、性能的影響與真空蒸鍍時(shí)的影響規(guī)律相似，但反應(yīng)氣體分壓對(duì)反應(yīng)離子鍍鍍制化合物膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能有直接的影響，圖5是hcd離子鍍tin膜的硬度與氮?dú)夥謮旱年P(guān)系，因此反應(yīng)氣體的分壓應(yīng)根據(jù)離子鍍方法，化合物膜層的成分、性質(zhì)、使用要求以及設(shè)備來(lái)選擇

③基片溫度.

離子鍍膜基片溫度的高低直接影響著膜層的組織、結(jié)構(gòu)和性能。一般情況下，溫度的升高有利于提高膜層與基片的附著力，有利于改善膜層的組織與性能。但是，溫度過(guò)高，則會(huì)使沉積速率降低，有時(shí)還會(huì)使膜層晶粒粗大，性能變壞；圖6中hcd離子鍍鉻膜顯微硬度受基片溫度影響的規(guī)律。另外，基片溫度的選擇還要受基片材料性質(zhì)的限制，如鋼材的回火溫度等

④蒸發(fā)源功率．

蒸發(fā)源功率對(duì)蒸發(fā)速率有直接的影響，進(jìn)而影響沉積速率，影響膜層的組織、性能，對(duì)反應(yīng)沉積化合膜時(shí)蒸發(fā)源功率也將影響膜層的成分。

為了獲得所需性能的膜層，應(yīng)綜合分析、考慮各種因素，迭擇鍍膜方法和確定合理的鍍膜工藝參數(shù)。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)相關(guān)知識(shí)

跟鍍膜行業(yè)有接觸的工作人員，幾乎人人都知道磁控濺射技術(shù)，它在現(xiàn)今市場(chǎng)應(yīng)用非常廣泛，各行各業(yè)鍍膜層都大量投入使用，獲得眾多商家和客戶的認(rèn)可。今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下磁控濺射真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)方面的相關(guān)知識(shí)。專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。

控制系統(tǒng)特點(diǎn)：

1）采用具有超溫偏差保護(hù)、專業(yè)磁控濺射生產(chǎn)數(shù)字顯示的微電腦P.I.D溫度控制器，帶有定時(shí)功能，控溫精準(zhǔn)可靠。

2）超溫保護(hù)、定時(shí)停機(jī)、來(lái)電恢復(fù)、溫度修正等功能。

3）具有斷電恢復(fù)功能，在外電源突然失電又重新來(lái)電后，專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)可自動(dòng)按原設(shè)定程序恢復(fù)運(yùn)行。安全裝置：A）慮周全的安全保護(hù)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)人員、樣品和設(shè)備的三重安全保護(hù)。B）全功能：傳感器故障報(bào)警、超溫報(bào)警、獨(dú)立式過(guò)升防止器、獨(dú)立式超溫保護(hù)器、過(guò)電流跳閘保護(hù)等。

東莞市至成真空科技有限公司服務(wù)于中國(guó)真空制造業(yè)各領(lǐng)域,我公司是一家專業(yè)真空應(yīng)用及設(shè)備研發(fā)制造的高科技企業(yè)。經(jīng)營(yíng)有：真空鍍膜設(shè)備、中頻離子鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、真空電鍍機(jī)、鍍金真空電鍍機(jī)、實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜機(jī)。東莞市至成真空科技有限公司擁有一批真空行業(yè)專家、工程師及售后服務(wù)人員。致力于真空設(shè)備的研發(fā)設(shè)計(jì)和提供完善的真空設(shè)備解決方案及售后服務(wù)。嚴(yán)格要求生產(chǎn)及管理，確保研發(fā)制造的產(chǎn)品安全、質(zhì)優(yōu)、可靠！務(wù)求先進(jìn)的技術(shù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)、專業(yè)周到的服務(wù)。以人為本！誠(chéng)實(shí)守信！開(kāi)拓創(chuàng)新！用戶至上是至成真空科技的發(fā)展精神，歡迎各界朋友選擇至成，選擇至成你我共贏，創(chuàng)造美好未來(lái)。