連續(xù)真空鍍膜機(jī)在選鍍工藝中有哪些優(yōu)勢?

今天和大家要的講的是連續(xù)真空鍍膜機(jī)在選鍍工藝中有哪些優(yōu)勢，連續(xù)真空鍍膜機(jī)機(jī)型比較的大，采購這款設(shè)備要考慮的問題可能需要更了解，因為機(jī)型大，自然投入的成本也不少，因此客戶才夠連續(xù)真空鍍膜機(jī)的時候，都是非常理性了。

連續(xù)鍍膜機(jī)是專用于各種帶材(銅帶/不銹鋼帶材)進(jìn)行貼膜加工后用于精密電鍍的設(shè)備，其原理是將PVC膜通過刀具切成型后貼著于不需要電鍍的帶材區(qū)間以起到遮蔽的作用。

本設(shè)備使電鍍區(qū)域精密度高達(dá)0.1mm范圍，非常有效的降低成本以及素材電鍍失敗成本，選鍍區(qū)域不受線體的設(shè)備限制，膜厚度及均勻度可有效控制，鍍種可任意選擇，電鍍線可浸鍍的鍍種均可貼膜選鍍，可以鍍銅鍍鎳以后選鍍錫或鎳/金/銀/鈀鎳等，同時使用本工藝加工出來的產(chǎn)品都有非常清晰的界面，非常有效的解決通過液面選鍍引起的波紋/選鍍不準(zhǔn)確/漏鍍/電鍍脫皮/膜厚度達(dá)不到要求及界面不清晰的問題，適用于各種帶材類電鍍加工。

真空鍍膜機(jī)液態(tài)電漿拋光原理

真空鍍膜機(jī)此方法將待拋光工件浸入加熱的電解質(zhì)水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價低濃度,所施加的電壓為直流電壓，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下，

真空鍍膜機(jī)工件表面會出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開，從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng)，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現(xiàn)拋光效果，其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層最薄且又足以抵御侵蝕作用時，

真空鍍膜機(jī)其反射率出現(xiàn)高值。微觀不平處的氧化層最薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位。此外，被拋光表面被施加足夠高的電壓后，它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產(chǎn)生很高的電場強(qiáng)度，這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達(dá)到拋光效果。

真空鍍膜機(jī)等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。真空鍍膜機(jī)等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。

③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r間短。

真空鍍對面涂層的要求：

①與鍍膜層要有良好的接觸性能;

②與底涂層要有一定的相溶性;

③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;

④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好?？估匣阅軓?qiáng)。

由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

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