磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽(yáng)極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使Ar氣發(fā)生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來(lái)沉積在基底表面上形成薄膜。

離子濺射鍍膜機(jī)

多靶離子束濺射鍍膜機(jī)系統(tǒng)在高精度光學(xué)薄膜沉積應(yīng)用中處于較高地位。多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是當(dāng)今僅存的在同一系統(tǒng)可互換使用行星型，簡(jiǎn)單旋轉(zhuǎn)型或可翻轉(zhuǎn)型基片裝置的系統(tǒng)。

在通信應(yīng)用上，能用于沉積高產(chǎn)值的200，100和50GHz具有窄通帶,寬截止頻帶,高隔離度,低插損特性的DWDM濾波器，滿足最為嚴(yán)格的性能指標(biāo)。在其它高精度光學(xué)應(yīng)用上，多靶離子束濺射鍍膜機(jī)能用于沉積增透膜，復(fù)雜的非四分之一波長(zhǎng)膜層，以及吸收和散射低于百萬(wàn)分位的超低損耗激光鏡。

真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?

今天至成真空小編為大家詳細(xì)介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟，它的先后順序是怎樣的，有那些細(xì)節(jié)和原理是必須要了解的。

首先在處理工藝前，需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝，抽真空、加熱烘烤、漏率測(cè)試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝：首先清洗環(huán)節(jié)，確保真空鍍膜機(jī)鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量；然后再抽真空將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。接下來(lái)加熱烘烤，爐體和工件同時(shí)加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測(cè)試，測(cè)試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗，去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜，沉積膜層。冷卻，避免工件氧化變色。為什么要進(jìn)行冷卻，鍍膜工藝完成后，真空室內(nèi)溫度高達(dá)500℃，如果不冷卻就放氣，沒(méi)有被鍍上膜的高溫工件表面會(huì)因?yàn)榕c空氣反應(yīng)氧化變成藍(lán)色。

雙色真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

很多人對(duì)真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實(shí)際運(yùn)用過(guò)程有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機(jī)PVD技術(shù)其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果極佳，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來(lái)的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

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