公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

根據(jù)金屬化全過(guò)程，在硅襯底上布局一層層僅數(shù)納米技術(shù)厚的金屬材料層。隨后在這里層金屬材料上覆上一層層光刻膠。這層光阻劑在曝i光（通常是紫外光）后能夠 被特殊水溶液（顯影液）融解。使特殊的納米越過(guò)光掩膜直射在光刻膠上，能夠 對(duì)光刻膠開(kāi)展可選擇性直射（曝i光）。隨后應(yīng)用前邊提及的顯影液，融解掉被直射的地區(qū)，那樣，光掩模上的圖型就展現(xiàn)在光刻膠上。一般 還將根據(jù)風(fēng)干對(duì)策，改進(jìn)剩下一部分光刻膠的某些特性。所述流程進(jìn)行后，就能夠 對(duì)襯底開(kāi)展可選擇性的刻蝕或離子注入全過(guò)程，未被融解的光刻膠將維護(hù)襯底在這種全過(guò)程中不被更改。

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圖形擴(kuò)展和收縮即從柵極開(kāi)始的尺寸操作，例如柵極處的注入層尺寸擴(kuò)大了。除了對(duì)應(yīng)于電路的圖案之外，完整的光掩模圖案還包括一些輔助圖案或測(cè)試圖案。常見(jiàn)的圖案包括光標(biāo)、光刻對(duì)準(zhǔn)圖案和曝光i燈光控制圖形、測(cè)試關(guān)鍵圖形、光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)圖形、劃線槽圖形以及其他LOGO名稱、版本等。

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掩膜（MASK）就是指單片機(jī)設(shè)計(jì)掩膜就是指程序流程統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機(jī)設(shè)計(jì)生產(chǎn)制造的全過(guò)程中把程序流程做進(jìn)來(lái)。優(yōu)勢(shì)是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動(dòng)程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長(zhǎng)。

蘇州制版位于蘇州工業(yè)園區(qū)生物納米園，是集研究、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于一體，專業(yè)制作高精度掩膜版的企業(yè)，擁有高標(biāo)準(zhǔn)的全凈化廠房，優(yōu)i秀的高素質(zhì)人才、專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。