公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線(xiàn)；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。

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光繪絲印網(wǎng)版規(guī)格漲縮根本原因1、溫度的危害在空氣濕度下，光繪絲印網(wǎng)版的規(guī)格隨之溫度的升高而漲大，溫度降低而變小，其熱漲形變指數(shù)在18ppm/℃上下，換句話(huà)說(shuō)當(dāng)溫度產(chǎn)生1℃的轉(zhuǎn)變時(shí)，光刻板，50cm長(zhǎng)的絲印網(wǎng)版會(huì)產(chǎn)生9um的轉(zhuǎn)變(或20寸中的0.36mil).2、環(huán)境濕度的危害在相對(duì)性溫度下，絲印網(wǎng)版的規(guī)格隨之環(huán)境濕度的升高而漲大，空氣濕度的減少而變小，濕漲形變指數(shù)在10ppm/%RH右，換句話(huà)說(shuō)當(dāng)環(huán)境濕度度產(chǎn)生1℃的轉(zhuǎn)變時(shí)，50cm長(zhǎng)的絲印網(wǎng)版會(huì)產(chǎn)生5um的轉(zhuǎn)變(或20寸中的0.20mil).3、膠卷在光繪前沒(méi)有歷經(jīng)預(yù)設(shè)因?yàn)槟z卷生產(chǎn)制造時(shí)沒(méi)法事先操縱膠卷中的環(huán)境濕度與每一裝配車(chē)間的環(huán)境濕度相同，因而應(yīng)用以前應(yīng)先使其與辦公環(huán)境超過(guò)均衡的情況。提議預(yù)設(shè)時(shí)間為12鐘頭，預(yù)設(shè)時(shí)務(wù)必開(kāi)啟膠卷的包裝，使其與外部的氣體充足觸碰。

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掩膜版的制作方法

提供一種掩膜版，包括對(duì)盒設(shè)置的第i一基板和第二基板；所述第i一基板下方設(shè)有陣列像素單元，每個(gè)所述像素單元包括i 一個(gè)薄膜晶體管 TFT ；所述第二基板上方設(shè)有透明導(dǎo)電層；所述透明導(dǎo)電層和所述陣列像素單元之間填充液晶；所述透明導(dǎo)電層和所述陣列像素單元表面分別設(shè)有配向膜層，用于使液晶分子沿 所述配向膜層表面的取向槽排列； 所述第i一基板上方設(shè)有第i一偏光器件；所述第二基板下方設(shè)有第二偏光器件；還包括驅(qū)動(dòng)單元，用于向所述陣列像素單元施加等級(jí)電壓，以控制所述掩模版的 入射光通過(guò)強(qiáng)度。

蘇州制版位于蘇州工業(yè)園區(qū)生物納米園，是集研究、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于一體，專(zhuān)業(yè)制作高精度掩膜版的企業(yè)，擁有高標(biāo)準(zhǔn)的全凈化廠(chǎng)房，優(yōu)i秀的高素質(zhì)人才、專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。