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    光掩膜除開運(yùn)用于集成ic生產(chǎn)制造外,還普遍的運(yùn)用與像LCD,PCB等層面。普遍的光掩膜的類型有幾種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。關(guān)鍵分2個構(gòu)成,基鋼板和不透原材料?;摪逡话?是高純,低透射率,低線膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透層是根據(jù)濺射的方式鍍在夾層玻璃正下方厚約0.1um的鉻層。鉻的強(qiáng)度比夾層玻璃略小,光刻板,雖不容易損傷但是將會被夾層玻璃所損害。運(yùn)用于集成ic生產(chǎn)制造的光掩膜為高敏感性的鉻版。


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    光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上,并且在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中,光敏樹脂是光刻膠的關(guān)鍵成分。


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