30．想請(qǐng)教國(guó)產(chǎn)光刻膠不能達(dá)到膜厚要求，進(jìn)口的有沒(méi)有比較好的光刻膠??？

都可以啊！goodpr是大陸比較多公司采用的，

但是Futurre 光刻膠在國(guó)外是比較有名氣的，包括很多大型企業(yè)都有用，膜厚做的也

比較厚從18um-200um都 可以做到，看你對(duì)工藝的要求了。

光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產(chǎn)品屬性：

1 ?FUTURRE光刻膠產(chǎn)品簡(jiǎn)要描述及優(yōu)勢(shì):

1.1 ? Futurre光刻膠黏附性好，無(wú)需使用增粘劑（HMDS）

1.2 ?負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年

1.3 ?150度烘烤，光刻膠NR74g-6000PY，縮短了烘烤時(shí)間

1.4 ?單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚

1.5 ?顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘

9，去膠:濕法去膠，用溶劑、用NONG硫酸。負(fù)膠，98%H2SO4+H2O2+膠=CO+CO2+H2O，正膠：BIN酮，干法去膠（ash）氧氣加熱去膠O2+膠=CO+CO2+H2O，光刻膠，等離子去膠Oxygenplasma ashing，光刻膠NR9-6000PY，高頻電場(chǎng)O2---電離O- + O+，? O+活性基與膠反應(yīng)CO2，CO， H2O，?光刻檢驗(yàn)

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應(yīng)美國(guó)Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負(fù)膠的設(shè)計(jì)適用于比較寬的波長(zhǎng)范圍和i線（366納米）曝光工具。當(dāng)顯影后NR9-3000PY顯示出負(fù)的側(cè)壁角度，是lift-off工藝中比較簡(jiǎn)易的光刻膠。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢(shì)：

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司位于北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，毗鄰中芯國(guó)際，京東方，RFMD------等知名半導(dǎo)體、LCD工廠。在半導(dǎo)體，LED，TFT-LCD，太陽(yáng)能光伏領(lǐng)域具有十年以上的進(jìn)口設(shè)備代理和安裝維修經(jīng)驗(yàn)。是一家致力于LED,MEMS,光電半導(dǎo)體，太陽(yáng)能光伏工廠及實(shí)驗(yàn)室所需設(shè)備、耗材的全套解決方案提供商，專業(yè)經(jīng)銷歐美日韓有名品牌光電半導(dǎo)體制程儀器設(shè)備，零附件，耗材，對(duì)中國(guó)國(guó)內(nèi)廣大客戶提供全面的產(chǎn)品咨詢和技術(shù)銷售服務(wù)。一直專注于微電子、微細(xì)加工及半導(dǎo)體工藝等領(lǐng)域設(shè)備的研發(fā),是此領(lǐng)域集技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)支持及服務(wù)營(yíng)銷為一體的高新技術(shù)企業(yè).公司主要產(chǎn)品有Futurrex光刻膠、勻膠機(jī)(SpinCoater)、光刻機(jī)(曝光機(jī)-LithographySystem)、KOSAKA表面輪廓儀等，其廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新能源等領(lǐng)域，適用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)和相關(guān)行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行教學(xué)實(shí)驗(yàn)、科學(xué)研究和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與批量生產(chǎn)，為光電半導(dǎo)體化工實(shí)驗(yàn)室全方面解決方案供應(yīng)商。