二、預(yù)烘和底膠涂覆（Pre-bake and Primer Vapor）

由于光刻膠中含有溶劑，所以對于涂好光刻膠的硅片需要在80度左右的。硅片脫水烘焙能去除圓片表面的潮氣、增強(qiáng)光刻膠與表面的黏附性、通常大約100 °C。這是與底膠涂覆合并進(jìn)行的。

底膠涂覆增強(qiáng)光刻膠(PR)和圓片表面的黏附性。廣泛使用: (HMDS)、在PR旋轉(zhuǎn)涂覆前HMDS蒸氣涂覆、PR涂覆前用冷卻板冷卻圓片。

5，顯影液

在已經(jīng)曝光的硅襯底膠面噴淋顯影液，或?qū)⑵浣菰陲@影液中，正膠是曝光區(qū)、而負(fù)膠是非曝光區(qū)的膠膜溶入顯影液，膠膜中的潛影顯現(xiàn)出來，形成三維圖像。

光刻膠國內(nèi)研發(fā)現(xiàn)狀

“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上，光刻膠NR71-1500PY?，布局不合理、不完整，特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。目前，整個(gè)產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強(qiáng)，前后兩端弱，核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。

光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時(shí)間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都很重要，必須全部指標(biāo)達(dá)到才能使用。因此，國外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面，對中國長期保密。中國的研發(fā)技術(shù)有待進(jìn)一步發(fā)展

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司位于北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，毗鄰中芯國際，京東方，RFMD------等知名半導(dǎo)體、LCD工廠。在半導(dǎo)體，LED，TFT-LCD，太陽能光伏領(lǐng)域具有十年以上的進(jìn)口設(shè)備代理和安裝維修經(jīng)驗(yàn)。是一家致力于LED,MEMS,光電半導(dǎo)體，太陽能光伏工廠及實(shí)驗(yàn)室所需設(shè)備、耗材的全套解決方案提供商，專業(yè)經(jīng)銷歐美日韓有名品牌光電半導(dǎo)體制程儀器設(shè)備，零附件，耗材，對中國國內(nèi)廣大客戶提供全面的產(chǎn)品咨詢和技術(shù)銷售服務(wù)。一直專注于微電子、微細(xì)加工及半導(dǎo)體工藝等領(lǐng)域設(shè)備的研發(fā),是此領(lǐng)域集技術(shù)開發(fā)、技術(shù)支持及服務(wù)營銷為一體的高新技術(shù)企業(yè).公司主要產(chǎn)品有Futurrex光刻膠、勻膠機(jī)(SpinCoater)、光刻機(jī)(曝光機(jī)-LithographySystem)、KOSAKA表面輪廓儀等，其廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新能源等領(lǐng)域，適用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)和相關(guān)行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行教學(xué)實(shí)驗(yàn)、科學(xué)研究和產(chǎn)品開發(fā)與批量生產(chǎn)，為光電半導(dǎo)體化工實(shí)驗(yàn)室全方面解決方案供應(yīng)商。