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    光刻膠NR21-20000P-光刻膠-賽米萊德

  • 作者: 北京賽米萊德貿易有限公司 2019-12-18 00:33 800
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    光刻膠趨勢

    半導體光刻膠領域全球市場規(guī)模趨于穩(wěn)定, 2017年全球市場約13.5億美元;國內市場約20.2億元,近5年復合增速達12%。受全球半導體市場復蘇和國內承接產(chǎn)業(yè)轉移,預計全球光刻膠市場將保持穩(wěn)定增速,國內市占率穩(wěn)步抬升。

    光刻膠生產(chǎn)、檢測、評價的設備價格昂貴,需要一定前期資本投入;光刻膠企業(yè)通常運營成本較高,下游廠商認證采購時間較長,為在設備、研發(fā)和技術服務上取得競爭優(yōu)勢,需要足夠的中后期資金支持。企業(yè)持續(xù)發(fā)展也需投入較大的資金,光刻膠行業(yè)在資金上存在較高的壁壘,國外光刻膠廠商相對于國內廠商,其公司規(guī)模更大,具有資金和技術優(yōu)勢。

    總體上,光刻膠行業(yè)得到國家層面上的政策支持。《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》,光刻膠NR9G-8000PY1,提出“研發(fā)光刻機、刻蝕機、離子注入機等關鍵設備,開發(fā)光刻膠、大尺英寸硅片等關鍵材料”;國家重點支持的高新技術領域(2015)中提到“高分辨率光刻膠及配套化學品作為精細化學品重要組成部分,是重點發(fā)展的新材料技術”;光刻技術(包括光刻膠)是《中國制造 2025》重點領域。


    NR9-1000py

    問題回饋:

    1.我們是LED制造商,麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。

    A 據(jù)我所知,F(xiàn)uturrex

    有幾款膠很,NR7-1500P

    NR7-3000P是專門為離子蝕刻

    設計的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應用。

    2.請問有沒有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品?

    A 美國光刻膠,光刻膠NR9-6000P,F(xiàn)uturrex

    正膠PR1-2000A

    , 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問題。

    3.你們是否有可以替代Shipley

    S1805的用于DVD的應用產(chǎn)品?

    A 我們建議使用Futurrex

    PR1-500A , 它有幾個優(yōu)點:比較好的解析度,比較好的線寬控制,光刻膠NR21-20000P,

    反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

    4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?

    A Futurrex, NR7 serious(負光阻)Orpr1 serious(正光阻),再經(jīng)過HMCTS

    silyiation process,可以達到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。

    5.厚膜光阻在鍍金應用上,用哪一種比較理想?

    A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。

    6.請教LIFT-OFF制程哪一種光阻最適合?

    A 可以考慮使用Futurrex

    ,正型光阻PR1,負型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

    7.請問,那位專家知道,RIE

    Mask,用什么光阻比較好?

    A 正型光阻用PR1系列,負型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。

    8.一般厚膜制程中,哪一種光阻最適合?

    A NR9-8000P有很高的深寬比(超過4:1),一般厚膜以及,MEMS產(chǎn)品的高需求。

    9.在DEEP

    RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?

    A 建議不使用,因為使用NR5-8000更加理想和適合。

    10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻最適合?

    A 有一種膠很適合,美國Futurrex

    生產(chǎn)的NR1-3000PY

    and和

    NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers



    光刻工藝主要性一

    光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復雜等特征,還需要相應光刻機與之配對調試。一般情況下,一個芯片在制造過程中需要進行10~50道光刻過程,由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等,不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣,即使類似的光刻過程,不同的廠商也會有不同的要求。

    針對不同應用需求,光刻膠的品種非常多,這些差異主要通過調整光刻膠的配方來實現(xiàn)。因此,光刻膠,通過調整光刻膠的配方,滿足差異化的應用需求,是光刻膠制造商最核心的技術。

    此外,由于光刻加工分辨率直接關系到芯片特征尺寸大小,而光刻膠的性能關系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應。光刻分辨率與曝光波長、數(shù)值孔徑和工藝系數(shù)相關。



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    北京賽米萊德貿易有限公司位于北京市北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū),毗鄰中芯國際,京東方,RFMD------等知名半導體、LCD工廠。在半導體,LED,TFT-LCD,太陽能光伏領域具有十年以上的進口設備代理和安裝維修經(jīng)驗。是一家致力于LED,MEMS,光電半導體,太陽能光伏工廠及實驗室所需設備、耗材的全套解決方案提供商,專業(yè)經(jīng)銷歐美日韓有名品牌光電半導體制程儀器設備,零附件,耗材,對中國國內廣大客戶提供全面的產(chǎn)品咨詢和技術銷售服務。一直專注于微電子、微細加工及半導體工藝等領域設備的研發(fā),是此領域集技術開發(fā)、技術支持及服務營銷為一體的高新技術企業(yè).公司主要產(chǎn)品有Futurrex光刻膠、勻膠機(SpinCoater)、光刻機(曝光機-LithographySystem)、KOSAKA表面輪廓儀等,其廣泛應用于微電子、光電子、通訊、微機械、新能源等領域,適用于大專院校、科研機構和相關行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)進行教學實驗、科學研究和產(chǎn)品開發(fā)與批量生產(chǎn),為光電半導體化工實驗室全方面解決方案供應商。


    產(chǎn)品價格:面議
    發(fā)貨地址:北京北京包裝說明:不限
    產(chǎn)品數(shù)量:不限產(chǎn)品規(guī)格:不限
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    相關產(chǎn)品:光刻膠
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