結(jié)果表明:隨氮分壓的,Ta N薄膜的微結(jié)構(gòu)明顯變化,同時(shí)Ta N薄膜的方阻也有顯著趨勢(shì);隨著沉積溫度的提高,Ta N薄膜的方阻有減小趨勢(shì),當(dāng)溫度達(dá)到400℃時(shí),制備出了方阻小于100Ω/□的薄膜;隨著沉積時(shí)間的加長(zhǎng),Ta N薄膜的方阻也出現(xiàn)減小的現(xiàn)象;后制備出工藝穩(wěn)定性好的方阻50Ω/□的Ta N薄膜用來(lái)制造片狀電阻的材料，氮化鉭電阻則可抵抗水汽的侵蝕利用磁控反應(yīng)濺射技術(shù)制備了氮化鉭薄膜，利用ＴＥＭ、ＸＲＤ技術(shù)研究了薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。研究結(jié)果表明：薄膜中多相共存；薄膜晶粒細(xì)小（１６ｎｍ左右）；同時(shí)還發(fā)現(xiàn)，在一定工作壓力下，隨著氮分壓的提高，氮化物晶粒形成的取向改變，即平行于基體表面生長(zhǎng)的晶面會(huì)有改變。氮化鉭靶材合成1、將金屬鉭粉用氮?dú)饣虬睔庠?100℃左右直接氮化制得；2、以金屬鉭和氮?dú)鉃樵现苽涞g，反應(yīng)式如下：2Ta+N2=2TaN。

醴陵市利吉升新材料有限公司是專業(yè)生產(chǎn)銷售高純金屬材料，合金材料 ， 陶瓷材料等蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材.公司產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、OLED、裝飾鍍膜、太陽(yáng)能光伏、磁記錄等鍍膜領(lǐng)域，公司擁有專業(yè)的技術(shù)研發(fā)人員，擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的鍍膜材料生產(chǎn)加工技術(shù)人員，長(zhǎng)期服務(wù)于國(guó)家科研項(xiàng)目及高新技術(shù)鍍膜產(chǎn)業(yè)。和多所高校研究所建立長(zhǎng)期的合作關(guān)系，以較高的性價(jià)比，成功發(fā)替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。