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    在工業(yè)應(yīng)用中，常用的準(zhǔn)分子波長是 172 nm。其 7.23 eV 的能量足以直接裂解有機(jī)分子的所有主要鍵，但碳和氧 (C=O) 之間的鍵和一些無機(jī)氧化物之間的鍵除外。這使其成為表面改性、光清洗、光固化的選擇。
    172nm紫外線UV光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍:
    1.各種材料(ITO玻璃,光學(xué)玻璃,鉻板,掩膜版,拋光石英晶體,硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理;
    2.石臘,松香,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂
    3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；
    4.真空密封技術(shù)和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗
    5.在LCD、OLED, Touch Panel科研/生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗，可以大的提高基體表面潤濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
    6.印制電路板生產(chǎn)中，對(duì)銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí)，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
    7.大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。?
    8.在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生
    9.在光盤的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤的質(zhì)量。
    10.磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。
    11.石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
    12.在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
    13.彩色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能洗凈表面的有機(jī)污染物。
    14.敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。
    15.光學(xué)玻璃經(jīng)過紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。
    16.樹脂透鏡光照后，能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。
    典型應(yīng)用包括：
    ·表面的原子級(jí)清洗
    ·聚合物粘接
    ·去除有機(jī)分子
    ·釋放捕獲的無機(jī)分子
    ·微流控制作
    ·微米/納米構(gòu)型
    ·紫外光固化
    ·表面化學(xué)改性
    ·表面
    ·表面氧化
    ·金屬粘結(jié)準(zhǔn)備……
    .光酸化水處理,促進(jìn)酸化水處理
    .光重合反應(yīng)

    172nm準(zhǔn)分子燈的特點(diǎn)：
    1、紅外線發(fā)生量少，低溫照射;
    2、可瞬間點(diǎn)燈，節(jié)省待機(jī)準(zhǔn)備時(shí)間;
    3、放電管內(nèi)不充入汞等有害物質(zhì)，對(duì)環(huán)境不產(chǎn)生影響;
    4、波長短，發(fā)光效率高，可產(chǎn)生高能光子，打破分子鍵，實(shí)現(xiàn)光清洗以及光改性；我們擁有好的設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)，可根據(jù)您的現(xiàn)有設(shè)備定制功率、長度和直徑，選取優(yōu)良材料制造，質(zhì)量嚴(yán)格把關(guān)。

    準(zhǔn)分子燈被稱為紫外線的冷源，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的紫外線燈（如汞燈）相比，準(zhǔn)分子燈的表面保持在相對(duì)較低的溫度。由于介質(zhì)不需要加熱，準(zhǔn)分子燈在打開后幾乎立即達(dá)到峰值輸出。
    稀有氣體和稀有氣體鹵化物準(zhǔn)分子燈通常在紫外(UV)和真空紫外(VUV)光譜區(qū)。它們特的窄帶發(fā)射特性、高量子效率和高能光子使其適用于吸收光譜、紫外線固化、紫外線涂層、消毒、臭氧產(chǎn)生、氣態(tài)有機(jī)廢物破壞、光刻和光刻等應(yīng)用。沉積和更多其他應(yīng)用。

    在紫外光譜區(qū)發(fā)射的光源廣泛用于涉及光化學(xué)過程的技術(shù)，例如油墨、粘合劑、清漆和涂層的固化、光刻、電介質(zhì)的紫外誘導(dǎo)生長、紫外誘導(dǎo)表面改性和清潔或材料沉積。非相干紫外源與激光源相比具有一些優(yōu)勢(shì)，因?yàn)樗鼈兂杀镜?、照射面積大且易于使用，尤其是在設(shè)想大規(guī)模工業(yè)過程時(shí)。
    汞燈(λ=253.7nm)是廣泛傳播的紫外線源，但其生產(chǎn)、使用和處理舊燈對(duì)人類健康和環(huán)境污染構(gòu)成威脅。與常用的汞燈相比，準(zhǔn)分子燈具有許多優(yōu)點(diǎn)。準(zhǔn)分子的一個(gè)特定特征是在基電子態(tài)中不存在強(qiáng)鍵。因此，可以從等離子體中提取高強(qiáng)度紫外線，而不會(huì)產(chǎn)生明顯的自吸收。這使得可以有效地將沉積到活性介質(zhì)的能量轉(zhuǎn)化為紫外線。
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