真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法如下：

1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。

2、打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。

3、低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。

5、落下鐘罩。

6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。

7、開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源。

1）左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。

2）低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。

8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。

9、真空鍍膜設(shè)備開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。

10、低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開(kāi)高壓閥。

如何處理真空鍍膜的灰塵呢

1、設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2、設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。

3、真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。

4、真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。

5、真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。

6、工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有的服裝。

由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜機(jī)的工作原理如下：

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的性能。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：首先，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗(yàn)裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測(cè)的成本。

因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。

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