ICP-OES選購 北京納克ICPOES
- 作者:鋼研納克江蘇檢測(cè)技術(shù)研究院有限公司 2023-12-15 08:44 90
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鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀測(cè)定鐵基非晶材料中B、Cr、Mn、Nb、P
關(guān)鍵詞:Plasma2000,ICP-OES,非晶材料,鋼鐵,全譜瞬態(tài)直讀
非晶合金(俗稱金屬玻璃)是一種兼有液體和固體、金屬和玻璃特征的金屬合金材料,因而具有特而優(yōu)異的性能,如高強(qiáng)度、高韌性、高硬度、極高抗腐蝕以及軟磁特性等,是一類發(fā)展前途的新型金屬材料。常見的非晶有鐵基非晶、鈷基非晶、鐵鎳基非晶、鈷鎳基非晶及納米非晶等。新型非晶合金是靠成分的調(diào)整來抑制晶態(tài)相的形成和長(zhǎng)大,從而得到很強(qiáng)的非晶形成能力,準(zhǔn)確測(cè)定非晶材料中的成分含量非常重要。本實(shí)驗(yàn)采用混酸溶樣,使用鋼研納克生產(chǎn)的ICP-OES發(fā)射光譜儀準(zhǔn)確測(cè)定了鐵基非晶材料中的B、Cr、Mn、Nb、P等元素。
儀器特點(diǎn)
Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司)是一種使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀,具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。儀器特點(diǎn)如下:
固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀。
Plasma 2000型ICP-OES光譜儀
樣品前處理
儀器參數(shù)
儀器工作參數(shù)
儀器工作參數(shù) 設(shè)定值 儀器工作參數(shù) 設(shè)定值
射頻功率/W 1250 氣流速/L·min-1 0.5
冷卻氣流速/L·min-1 13.5 蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速/rpm 20
載氣流速/L·min-1 0.5 進(jìn)樣時(shí)間/s 25
典型元素譜線
光譜掃描后,根據(jù)樣品中各待測(cè)元素的含量及譜線的干擾情況,選其靈敏度適宜、譜線周圍背景低且無其他元素明顯干擾的譜線作為待測(cè)元素的分析線。其典型譜線見下圖及下表。
準(zhǔn)確度及方法回收率
按照實(shí)驗(yàn)方法測(cè)定樣品,并進(jìn)行加標(biāo)回收試驗(yàn),結(jié)果見下表
各元素的加標(biāo)回收實(shí)驗(yàn) %
元素 測(cè)定值 加入量 測(cè)定總值 回收率%
穩(wěn)定性
對(duì)實(shí)際樣品連續(xù)測(cè)定11次,計(jì)算其平均值及穩(wěn)定性RSD%
各元素穩(wěn)定性 %
元素 11次測(cè)定值 平均值 RSD
方法檢出限
在該方法選定條件下,對(duì)鐵基體空白溶液連續(xù)測(cè)定11次,以3倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素檢出限,以10倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素的測(cè)定下限,該測(cè)定下限完全滿足鐵基非晶材料中B、Cr、Mn、Nb、P元素的分析。
各元素的線性回歸方程和檢出限
元素 譜線nm 檢出限% 測(cè)定下限%
結(jié)論
Plasma 2000光譜儀對(duì)非晶材料中B、Cr、Mn、Nb、P等元素進(jìn)行測(cè)定,穩(wěn)定性較好,RSD%(n=11)在1.39%-1.86%之間,檢出限在0.00035-0.0231%之間,回收率在95.0-100.0%之間,準(zhǔn)確性好。Plasma 2000能夠快速、準(zhǔn)確、可靠的測(cè)定鐵基非晶材料中B、Cr、Mn、Nb、P等元素。
鋼研納克國產(chǎn)ICP光譜儀測(cè)定鋰離子電池電解液中的雜質(zhì)元素
1 前言
鋰電池電解液是電池中離子傳輸?shù)妮d體。一般由鋰鹽(六氟磷酸鋰)和(酯類)組成,金屬雜質(zhì)直接影響鋰離子在電解液中的傳導(dǎo)以及電極的容量和壽命。金屬雜質(zhì)離子具有比鋰離子低的還原電位,因此在充電過程中,金屬雜質(zhì)離子將首先嵌入到碳負(fù)極中,減少了鋰離子嵌入的位置,減少了鋰離子電池的可逆容量。高濃度的金屬雜質(zhì)離子的含量不僅會(huì)導(dǎo)致鋰離子電池可逆比容量的下降,而且金屬雜質(zhì)離子的析出還可能導(dǎo)致石墨電極表面無法形成有效的鈍化層,使整個(gè)電池遭到破壞,但低濃度的金屬雜質(zhì)離子對(duì)電池性能影響不大。各金屬含量應(yīng)小于0.002%,一般應(yīng)為0.001%左右。[1]但實(shí)際生產(chǎn)中要求更低,實(shí)驗(yàn)中使用客戶實(shí)際樣品,應(yīng)客戶要求待分析元素為K、Na、Ca、Fe、Pb、Cr。
2.實(shí)驗(yàn)部分
2.1 儀器簡(jiǎn)介
電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀簡(jiǎn)稱 ICP-AES ,文中使用我公司推出的全譜型光譜儀Plasma2000。
2.2 樣品前處理
樣品為有機(jī)液態(tài)溶液。采用兩種前處理方法:
方法(1)無機(jī)進(jìn)樣[2]。將5g樣品置于聚四氟乙烯燒杯中,200℃加熱至干,稍冷后加20mlHNO3,低溫至全部溶解、蒸干,加10mlHNO3低溫反應(yīng)10分鐘后加入1mlH2O2,低溫待反應(yīng)完畢后冷卻,然后定容到25ml容量瓶中。
方法(2)直接有機(jī)進(jìn)樣。將5g樣品置于塑料瓶中,加入不同質(zhì)量的標(biāo)油,再加入一定量的無水,定量到10g,搖勻。
2.3 儀器參數(shù)
Plasma2000:
方法(1):功率 1.20KW,冷卻氣流量 15.0 L/min,氣流量 0.5L/min,載氣流量 0.5 L/min,蠕動(dòng)泵泵速 20 rpm。玻璃霧化系統(tǒng)和矩管。
方法(2):功率 1.35KW,冷卻氣流量 18.0 L/min,氣流量 0.5L/min,載氣流量 0.35 L/min,蠕動(dòng)泵泵速 20 rpm,氧氣流量10ml/min。帶冷卻功能的玻璃霧化系統(tǒng)和矩管。
4.結(jié)論
使用電感耦合等離子體全譜儀ICP-2000分析鋰離子電池電解液時(shí),直接有機(jī)進(jìn)樣無需前處理,空白低,因此大大縮短了實(shí)驗(yàn)時(shí)間,提高了儀器的檢出能力,可以測(cè)試1μg/g的元素含量。使用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以消除基體對(duì)結(jié)果的干擾。
鋼研納克ICP光譜儀Plasma 2000測(cè)定鋰離子電池電解液中的雜質(zhì)元素含量
關(guān)鍵詞:Plasma 2000,ICP-OES,鋰離子電池,電解液,雜質(zhì)元素
前言
鋰離子電池電解液是電池中離子傳輸?shù)妮d體。一般由鋰鹽(六氟磷酸鋰)和(酯類)組成,金屬雜質(zhì)的含量直接影響鋰離子在電解液中的傳導(dǎo)率以及電極的容量和使用壽命。金屬雜質(zhì)離子具有比鋰離子低的還原電位,在充電過程中會(huì)嵌入碳負(fù)極,減少電池的可逆容量。高濃度的金屬雜質(zhì)離子的析出還可能導(dǎo)致石墨電極表面無法形成有效的鈍化層,使整個(gè)電池遭到破壞。依據(jù)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)HG/T 4067-2008,相應(yīng)金屬雜質(zhì)元素含量應(yīng)小于10μg/g。
常規(guī)的樣品前處理使用濕法消解技術(shù),這一過程使用大量酸長(zhǎng)時(shí)間、反復(fù)消解,由此引入的空白累加結(jié)果可能已經(jīng)超過了樣品本身的含量,導(dǎo)致樣品更加難以準(zhǔn)確測(cè)定。本方法使用鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀,采用有機(jī)物直接進(jìn)樣測(cè)定電池電解液中雜質(zhì)元素含量,極大降低了基體噪聲,提高了檢出能力,克服了常規(guī)前處理中引入大量試劑空白、難以控制雜質(zhì)引入、微波消解周期長(zhǎng)、難以控制及樣品稀釋等問題,為鋰離子電池電解液中雜質(zhì)元素的測(cè)定提出了簡(jiǎn)單、快捷的測(cè)試方法。
儀器優(yōu)勢(shì)
Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司)是一種使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀,具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。儀器特點(diǎn)如下:
固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀。
有機(jī)物直接進(jìn)樣:使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng),采用有機(jī)溶液直接進(jìn)樣,取代了傳統(tǒng)的大量使用強(qiáng)氧化劑濕法消解的方法,大大簡(jiǎn)化了前處理的流程和時(shí)間,同時(shí)可以有效避免有機(jī)樣品加熱消解時(shí)引起的元素?fù)p耗和引入的空白。
多元素同時(shí)測(cè)定:Plasma 2000為全譜型光譜儀,可以對(duì)多個(gè)不同元素同時(shí)測(cè)定。
無須基體匹配:采用標(biāo)準(zhǔn)加入法,將標(biāo)油加入電解液中,無需進(jìn)行基體匹配。
Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
樣品前處理
將5g樣品置于塑料瓶中,加入不同質(zhì)量的標(biāo)油,再加入一定量合適的稀釋劑,定量到10g,搖勻,直接進(jìn)樣測(cè)試。
儀器參數(shù)
觀測(cè)方向 載氣流量
(L/min) 氣流量
(L/min) 冷卻氣流量
(L/min) 氧氣流量
(L/min)
徑向 0.35 0.4 20 0.018
RF功率
(W) 曝光時(shí)間
(s) 進(jìn)樣時(shí)間
(s) 泵速
(rpm)
1350 8 120 20
結(jié)論
本方法采用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)與Plasma 2000全譜型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀聯(lián)用的方法測(cè)定鋰離子電池電解液中的Cr、K、Na、Ca、Fe、Pb,測(cè)試結(jié)果與行標(biāo)HG/T4067-2008對(duì)比,相應(yīng)元素均未超標(biāo),方法有效解決了有機(jī)物消解過程中引入大量背景離子的問題,大大提高了檢測(cè)效率,適用于鋰離子電池電解液中的Cr、K、Na、Ca、Fe、Pb等離子的快速檢測(cè)。
公司封皮
鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定球磨鑄鐵中Si、Mn、P、La、Ce、Mg含量
關(guān)鍵詞:Plasma2000,ICP-OES,球磨鑄鐵,全譜瞬態(tài)直讀
引言
球墨鑄鐵是一種高強(qiáng)度鑄鐵材料,其綜合性能接近于鋼,用于鑄造一些受力復(fù)雜,強(qiáng)度、韌性、耐磨性要求較高的零件。除鐵元素外,它的化學(xué)成分通常為:含碳量3.0~4.0%,含硅量1.8~3.2%,含錳、磷、硫總量不超過3.0%以及適量的稀土、鎂等球化元素。因此球墨鑄鐵中的Si、Mn、P、La、Ce 、Mg元素測(cè)定十分重要。本文采用Plasma2000電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀(ICP-OES) 對(duì)球墨鑄鐵中的Si、Mn、P、La、Ce、Mg元素含量進(jìn)行了測(cè)定,標(biāo)樣和樣品測(cè)試均得到了滿意的結(jié)果。
儀器特點(diǎn)
Plasma 2000 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司)是一種使用方便、操作簡(jiǎn)單、測(cè)試快速的全譜ICP-OES分析儀,具有良好的分析精度和穩(wěn)定性。儀器特點(diǎn)如下:
? 固態(tài)射頻發(fā)生器,超高穩(wěn)定光源;
? 大面積背照式CCD芯片,寬動(dòng)態(tài)范圍;
? 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),體積小巧;
? 多元素同時(shí)分析,全譜瞬態(tài)直讀。
樣品前處理
參考國標(biāo)GB/T 24520-2009《鑄鐵和低合金鋼 鑭、鈰和鎂含量的測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法》,準(zhǔn)確稱取0.5 g(至0.0001 g)試樣,加入鹽酸、硝酸混合酸分解,冒煙,以混酸溶解鹽類,冷卻狀態(tài)下加入氫氟酸,試液稀釋至一定體積,干過濾。Si稀釋10倍測(cè)定,其他元素直接測(cè)定。
樣品溶解圖解
儀器參數(shù)
儀器工作參數(shù) 設(shè)定值 儀器工作參數(shù) 設(shè)定值
射頻功率/W 1250 氣流速/L·min-1 0.5
冷卻氣流速/L·min-1 13.5 蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速/rpm 20
載氣流速/L·min-1 0.5 進(jìn)樣時(shí)間/s 25
標(biāo)準(zhǔn)樣品
選用標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行測(cè)試
標(biāo)樣編號(hào) 標(biāo)樣名稱
GBW(E)010188a 稀土鎂球墨鑄鐵
典型元素譜線
準(zhǔn)確度及穩(wěn)定性
標(biāo)樣GBW(E)010188a測(cè)試結(jié)果
元素 Plasma2000測(cè)定值/% RSD(n=11)/% 認(rèn)定值/% 標(biāo)樣不確定度/%
實(shí)際樣品測(cè)試
樣品編號(hào) 1# 2#
元素 Plasma2000/% 參考結(jié)果*/% Plasma2000/% 參考結(jié)果*/%
*參考結(jié)果為其他實(shí)驗(yàn)室測(cè)定值
方法檢出限
在選定工作條件下對(duì)標(biāo)準(zhǔn)溶液系列的空白溶液連續(xù)測(cè)定11次,以3倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素檢出限,以10倍標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算方法中各待測(cè)元素的測(cè)定下限。
各元素的譜線和方法檢出限
元素 譜線/nm 方法檢出限/% 測(cè)定下限/%
結(jié)論
參考標(biāo)準(zhǔn)GBT 24520-2009,利用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀對(duì)球磨鑄鐵中Si、Mn、P、La、Ce、Mg元素進(jìn)行測(cè)定,方法檢出限在0.00001%~0.00165%之間,檢測(cè)結(jié)果與標(biāo)樣認(rèn)定值一致。該方法應(yīng)用范圍廣泛,對(duì)火花光譜無法檢測(cè)的非白口化樣品也能分析檢測(cè)。 Plasma 2000能夠快速、準(zhǔn)確、可靠的測(cè)定球墨鑄鐵中的Si、Mn、P、La、Ce、Mg元素。
儀器優(yōu)點(diǎn)
1. 優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)
2. 固態(tài)射頻發(fā)生器,體積更加小巧
3. 流程自動(dòng)化,狀態(tài)及自動(dòng)保護(hù)
4. 科研級(jí)檢測(cè)器,極高的紫外量子化效率
5. 強(qiáng)大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強(qiáng)大
9. 智能譜圖標(biāo)定
10.智能干擾矯正
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司(代碼:300797)是中央企業(yè)中國鋼研科技集團(tuán)有限公司(鋼鐵研究總院)的二級(jí)單位,從事分析儀器裝備和分析檢測(cè)技術(shù)的研究、開發(fā)和應(yīng)用的高新技術(shù)創(chuàng)新型企業(yè)。目前公司提供的主要服務(wù)或產(chǎn)品包括分析檢測(cè)儀器、第三方檢測(cè)服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品、能力驗(yàn)證服務(wù)等檢測(cè)相關(guān)產(chǎn)品與延伸服務(wù)。鋼研納克不僅是中國分析儀器設(shè)備制造的行業(yè)企業(yè),也是國內(nèi)元素檢測(cè)領(lǐng)域儀器種類、綜合實(shí)力的儀器裝備和分析測(cè)試技術(shù)的研究機(jī)構(gòu)之一。公司及子公司牽頭制修訂7項(xiàng)、參與制修訂20余項(xiàng)、制定170余項(xiàng)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn);研制家級(jí)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品300多種。力爭(zhēng)成為測(cè)試儀器裝備領(lǐng)域有影響力的國際競(jìng)爭(zhēng)參與者、成為具有國際影響力的材料表征評(píng)價(jià)認(rèn)證的和綜合解決方案的提供者。鋼研納儀器產(chǎn)品主要包含:電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,ICPMS,ICP光譜儀,國產(chǎn)ICP,國產(chǎn)ICP-MS,ICP光譜分析儀,電感耦合等離子體光譜儀,電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,食品重金屬檢測(cè)儀、土壤重金屬檢測(cè)儀、波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀、金屬原位分析儀、脈沖熔融-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、試驗(yàn)機(jī)、環(huán)保監(jiān)測(cè)設(shè)備等技術(shù)水平的檢測(cè)裝備,其中多款儀器*(屬國內(nèi)臺(tái)套)。產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,檢測(cè)數(shù)據(jù)可靠,累計(jì)市場(chǎng)占有率排名國內(nèi)行業(yè)前列,部分產(chǎn)品成為同類產(chǎn)品的業(yè)界,牽頭制定了相關(guān)儀器和檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司是國內(nèi)早使用和開發(fā)ICP光譜儀和ICP-MS的科研單位之一,依托鋼鐵材料測(cè)試中心,培育了一批ICP光譜儀和ICP-MS應(yīng)用和儀器。ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018和ICP-MS儀器計(jì)量檢定規(guī)程GB/T 34826-2017的起草單位。重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,*ICP系列分析儀器的發(fā)展。擁有30多年ICP方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),懂ICP應(yīng)用的國產(chǎn)ICP&ICP-MS制造商。免費(fèi)培訓(xùn),解決客戶應(yīng)用方法的難題,讓您ICP光譜儀和ICP-MS用的!,上市公司,品質(zhì)之選!. 聯(lián)系人:文經(jīng)理 電話 手機(jī).
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相關(guān)產(chǎn)品:碳硫分析儀,氧氮分析儀,氧氮?dú)浞治鰞x
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