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    甲基磺酸鹽鍍錫
    雖然早在20世紀(jì)40年代人們就知道甲基磺酸體系鍍錫具有實用性，但是直 到20世紀(jì)80年代它才獲得工業(yè)應(yīng)用，稱為錫、鉛和錫鉛合金的理想鍍液。與其他鍍錫工藝相比，甲基磺酸鹽鍍錫具有明顯的優(yōu)勢，它的腐蝕性小，廢水處理容易，能在高電流密度下操作，可用于無光、半光亮和光亮鍍錫。甲基磺酸能與各種金屬形成鹽，不管工藝溫度怎樣變化，甲基磺酸鹽都不會出現(xiàn)明顯水解。因此，甲基磺酸鍍錫作為其他鍍錫方法的替代品得到了很大發(fā)展， 目前它的應(yīng)用為廣泛。
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    厚度
    由于鍍錫板上的鍍錫層非常薄，實際應(yīng)用中在考慮鍍錫板的厚度時，對鍍錫層的厚度可以忽略不計，所以在產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的厚度實質(zhì)上是鋼基板的厚度。按照國標(biāo)GB/T2520所規(guī)定的定義，一次冷軋鍍錫板的厚度范圍為0.15-0.60mm,二次冷軋鍍錫板的厚度范圍為0.12~0.36mm.鍍錫板的公稱厚度小于0.50mm時，按0.01mm的倍數(shù)進(jìn)級，公稱厚度大于等于0.50mm時，按0.05mm的倍數(shù)進(jìn)級。鍍錫板厚度允許偏差不大于公稱厚度的±7%,厚度測量位置為距離鋼板兩側(cè)邊部不小于10mm的任意點。
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    氟硼酸鹽鍍錫
    氟硼酸鹽鍍錫是較早的酸性鍍錫方法之一，氟硼酸鹽鍍液可用于掛鍍、滾鍍及 版帶線材連續(xù)自動化生產(chǎn)。它的主要優(yōu)點是電流密度范圍寬，沉積速度快，與錫酸鹽鍍錫相比沉積速度快2~3倍，而電能的消耗卻只有10%,鍍液的分散能力好， 1而且鍍層細(xì)致，潔白而有光澤。由于陰、陽極的電流效率都接近,溶液幾乎1能自動保持平衡，維護(hù)很簡單。氟硼酸鹽鍍錫的大缺點是氟離子和硼離子會污染1環(huán)境，因此廢水處理的成本很高。它也是所有酸性鍍錫中腐蝕性強的。
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    鹵化物鍍錫
    鹵化物鍍錫主要用于連續(xù)鋼帶電鍍純錫工業(yè)。其工藝的優(yōu)點是能夠在相當(dāng)寬的鍍液濃度范圍內(nèi)滿意地進(jìn)行電鍍錫操作，因而作業(yè)線的速度可以很高。鹵素型電鍍錫作業(yè)線的主要特點為帶鋼是水平地運行進(jìn)行工藝處理，而不像在其他工藝中那樣以一系列垂直的“S"形運行。這樣帶鋼的運行控制比較簡單，很薄的帶鋼可以容易地以很高的速度進(jìn)行處理。鹵化物鍍錫所用的電鍍液是氯化亞錫和堿金屬氟化物的水溶液。鍍液中的氯匕物同可溶的氟化物的摩爾比(它同鍍液的pH值有關(guān))是本工藝的重要操作因1索。為得到平滑的附著良好的鍍錫層，還必須加入添加劑，代表性的例子是萘酚黃酸或聚氧乙烯類化合物。鍍液中也可含有其他添加劑，例如明膠或胨等。鹵化物鍍錫由于腐蝕劑環(huán)境污染等問題，現(xiàn)已很少應(yīng)用。 
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