北京冠金利新材料科技有限公司為您供應(yīng)高純鋯靶材及鋯的相關(guān)鍍膜產(chǎn)品，主要包括：
 1、 高純鋯靶:本公司供應(yīng)適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鋯靶材。
 2、 高純鋯靶材純度為：99.9%，99.95%,**。 
 3、 高純鋯靶材的規(guī)格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鋯靶，150*100*3平面高純板鋯靶材，（2）磁控濺射用高純鋯靶：?100*120柱靶等。
 4、 高純鋯靶的原材料生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。
 5、 高純鋯靶材加工工藝：車，銑，等。
 以上是北京冠金利新材料科技有限公司對(duì)高純鋯靶的相關(guān)介紹，高純鋯靶材規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工，如有疑問(wèn)，請(qǐng)來(lái)電咨詢！
 北京冠金利新材料科技有限公司高純單質(zhì)濺射靶材
 高純鋁靶材Al 高純銅靶材Cu 高純鐵靶材Fe 高純鈦靶材Ti 高純鎳靶材Ni
 高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr 高純鋅靶材Zn 高純銀靶材Ag 高純鈷靶材Co
 高純鈮靶材Nb 高純錫靶材Sn 高純銦靶材In 高純鋯靶材Zr 高純鉭靶材Ta
 高純鍺靶材Ge 高純硅靶材Si 高純鎢靶材W 高純鉿靶材Hf 高純釔靶材Y
 高純釓靶材Gd 高純釤靶材Sm 高純鏑靶材Dy 高純鈰靶材Ce 高純鑭靶材La
 高**靶材Au 高純不銹鋼靶材 高純石墨靶材C 高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo
 高純鉑靶材Pt 高純鉛靶材Pb 高純鐠靶材Pr 高純鋱靶材Tb 高純鈥靶材Ho
 高純鐿靶材Yb 高純銩靶材Tm 高純镥靶材Lu 高純鉺靶材Er 高純鈧靶材Sc
 
 以上是北京冠金利新材料科技有限公司單質(zhì)濺射靶材種類，根據(jù)金屬靶材種類的不同，靶材所能達(dá)到的較高純度也不相同，純度一般為99.9%-99.9999%之間，根據(jù)濺射設(shè)備的不同，以上靶材常用形狀規(guī)格有圓靶、板靶、旋轉(zhuǎn)柱靶、旋轉(zhuǎn)管靶、圓臺(tái)靶、階梯靶等，可根據(jù)您的要求定做，如果您有以上靶材需要，請(qǐng)來(lái)電咨詢，我們會(huì)用誠(chéng)信和品質(zhì)給您一個(gè)滿意的答復(fù)。