北京冠金利新材料科技有限公司高純單質(zhì)濺射靶材
 高純鋁靶材Al 高純銅靶材Cu 高純鐵靶材Fe 高純鈦靶材Ti 高純鎳靶材Ni
 高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr 高純鋅靶材Zn 高純銀靶材Ag 高純鈷靶材Co
 高純鈮靶材Nb 高純錫靶材Sn 高純銦靶材In 高純鋯靶材Zr 高純鉭靶材Ta
 高純鍺靶材Ge 高純硅靶材Si 高純鎢靶材W 高純鉿靶材Hf 高純釔靶材Y
 高純釓靶材Gd 高純釤靶材Sm 高純鏑靶材Dy 高純鈰靶材Ce 高純鑭靶材La
 高純金靶材Au 高純不銹鋼靶材 高純石墨靶材C 高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo
 高純鉑靶材Pt 高純鉛靶材Pb 高純鐠靶材Pr 高純鋱靶材Tb 高純鈥靶材Ho
 高純鐿靶材Yb 高純銩靶材Tm 高純镥靶材Lu 高純鉺靶材Er 高純鈧靶材Sc
 
 以上是北京冠金利新材料科技有限公司單質(zhì)濺射靶材種類，根據(jù)金屬靶材種類的不同，靶材所能達(dá)到的最高純度也不相同，純度一般為99.9%-99.9999%之間，根據(jù)濺射設(shè)備的不同，以上靶材常用形狀規(guī)格有圓靶、板靶、旋轉(zhuǎn)柱靶、旋轉(zhuǎn)管靶、圓臺靶、階梯靶等，可根據(jù)您的要求定做，如果您有以上靶材需要，請來電咨詢，我們會用誠信和品質(zhì)給您一個滿意的答復(fù)。
 
 北京冠金利新材料科技有限公司為您供應(yīng)高純鋁靶材及鋁的相關(guān)鍍膜產(chǎn)品，主要包括：
 1、 高純鋁靶:本公司供應(yīng)適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鋁靶材。
 2、 高純鋁靶材純度為：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。
 3、 高純鋁靶材的規(guī)格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鋁靶，150*100*3平面高純板鋁靶材，（2）磁控濺射用高純鋁靶：?100*120柱靶等。
 4、 高純鋁靶的原材料生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。
 5、 高純鋁靶材加工工藝：車，銑，等。
 6、高純鋁靶材相關(guān)參數(shù)的介紹：外觀：銀白色 密度：2.70 g/cm3 熔點： 660℃沸點：2463℃ 。以上是北京冠金利新材料科技有限公司對高純鋁靶的相關(guān)介紹，高純鋁靶材規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工，如有疑問，請來電咨詢！