在真空鍍膜工藝中工業(yè)冷水機(jī)起什么作用？ 真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無(wú)光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，果如真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。 中頻設(shè)備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。 （主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)產(chǎn)生高溫會(huì)使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來(lái)冷卻射槍。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。 從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱(chēng)性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。 風(fēng)冷式冷水機(jī)和水冷式冷水機(jī)組的功能及制冷方式是一樣的，整體結(jié)構(gòu)及運(yùn)行回路除了冷凝器外，其他部分都是相同的。風(fēng)冷式冷水機(jī)采用翅片式冷凝器，直接以風(fēng)扇強(qiáng)制空氣流動(dòng)帶走冷媒熱量；水冷式冷水機(jī)采用殼管式冷凝器，以冷卻水不斷流動(dòng)帶走冷媒熱量，再通過(guò)冷卻水塔散去冷卻水所吸收的熱量。 能效對(duì)比 由于傳熱溫差不同，在相同的室外環(huán)境條件下，風(fēng)冷式冷水機(jī)運(yùn)行的冷凝溫度要比水冷式的高，因此在制冷量一樣的情況下，風(fēng)冷式冷水機(jī)組的耗電量會(huì)更高一些。從能效上來(lái)說(shuō)，通常水冷式機(jī)組要比風(fēng)冷式機(jī)組的制冷量要高出300~500 Kcal/h。 冷熱一體機(jī) 主要特點(diǎn) 最高采用歐美進(jìn)口壓縮機(jī)頭 銅管采用無(wú)氧焊接法 加熱功率切換功能 RS485通訊功能，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化管理（選購(gòu)） 電器采用OMRON，F(xiàn)UJI，TE，LG，MOELLER，ABB 溫度控制范圍：進(jìn)水溫度+5oC-98oC 不銹鋼一體管路，減少管阻及銹垢 采用進(jìn)口高級(jí)組件，使用年限長(zhǎng) 控制方式：采用進(jìn)口為電腦或PLC（選購(gòu)） 安全保護(hù)完善，故障顯示，維修，保養(yǎng)無(wú)需專(zhuān)業(yè)人員 高效率蒸發(fā)器，可節(jié)省能源30%以上 C-10以上采用兩組壓縮機(jī)頭，可單獨(dú)或共同使用。