水鉆業(yè)去離子水設(shè)備，去離子水處理設(shè)備，電鍍行業(yè)用去離子水設(shè)備，創(chuàng)新水業(yè)系列高純水設(shè)備在水鉆水晶化鍍工藝用水的廣泛應(yīng)用。水鉆水鉆行業(yè)用去離子水高純是設(shè)備的應(yīng)用：

真空鍍膜或電鍍液配置，水鉆的清洗，主要用超聲波配合高純度的去離子水清洗，以達(dá)到滿意效果。

水鉆行業(yè)用水要求：

1.水質(zhì)電阻率在15兆以上。

2.基本不含其它雜質(zhì)離子。

水鉆行業(yè)去離子水設(shè)備工藝主要有三種：

第一種、傳統(tǒng)工藝，自來水--過濾器--陽離子交換器--陰離子交換器---混床--水箱--用水點(diǎn)

此方法的優(yōu)點(diǎn)是投資少，出水水質(zhì)穩(wěn)定。缺點(diǎn)是操作復(fù)雜，樹脂需要頻繁再生，耗酸堿費(fèi)用比較多，處理后的水質(zhì)中有機(jī)物部分顆粒雜質(zhì)不能去除。現(xiàn)在基本沒有人用這種方法了。

第二種、反滲透+混床

自來水--砂過濾器--碳過濾--軟化器（或阻垢劑）--精密過濾器--RO反滲透--混床--水箱-用水點(diǎn)

此工藝為目前最主要的水處理工藝，以創(chuàng)新水業(yè)系列的去離子水設(shè)備為代表，廣泛應(yīng)用于水鉆水晶等各個(gè)行業(yè)。

優(yōu)點(diǎn)是RO反滲透的應(yīng)用，去除99%以上的離子，剩余部分用混床處理，相對再生較少，操作簡單，出水水質(zhì)好，一般電阻率可達(dá)15-18兆歐。

第三種、預(yù)處理--RO反滲透—EDI高純水處理系統(tǒng)，以創(chuàng)新水業(yè)生產(chǎn)設(shè)計(jì)的EDI高純水處理系統(tǒng)為例子

優(yōu)點(diǎn)：出水水質(zhì)好，無需再生，操作簡單，安全環(huán)保無污染，自動(dòng)化控制程度高，可以24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。
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