反滲透純水處理EDI太陽(yáng)能純水處理
 
EDI原理及工作過(guò)程     EDI技術(shù)是將兩種已經(jīng)成熟的淨(jìng)水技術(shù)：電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合。將離子  交換樹(shù)脂填充在陰、陽(yáng)離子交換膜（專(zhuān)用膜）之間形成EDI單元(俗稱(chēng)淡水室)，在一  定電壓、電流作用下使離子從淡水室進(jìn)入到鄰近的濃水室。  EDI組件將給水合成三股獨(dú)立的水流:     ① 純水（最高利用率爲(wèi)90-99%）     ② 濃水（純水的5-10%）     ③ 極水（1-2%排放）  極水先經(jīng)過(guò)陽(yáng)極區(qū)再進(jìn)入陰極區(qū)。極水可以從電極區(qū)攜出電解産生的氯氣、氧氣和氫氣。  EDI與傳統(tǒng)溫床的比較  項(xiàng)目EDI溫床產(chǎn)水性質(zhì)15～18MΩ·cm2～10MΩ·cm穩(wěn)定性水質(zhì)穩(wěn)定水質(zhì)受樹(shù)脂交換狀況，再生品質(zhì)影響大操作性操作簡(jiǎn)便，無(wú)需專(zhuān)業(yè)熟練工再生時(shí)對(duì)操作人員操作水平要求高環(huán)保性無(wú)需酸堿，無(wú)任何化學(xué)汙染需要酸堿再生，需解決酸堿儲(chǔ)存與排放的問(wèn)題連續(xù)運(yùn)行再生時(shí)無(wú)需停機(jī)，邊運(yùn)行邊再生再生時(shí)需要停機(jī)再生運(yùn)行費(fèi)用低高初期投資較高低拋光混床    采用高交換容量、充分再生、無(wú)化學(xué)析出的核子級(jí)樹(shù)脂，去除純水中殘余的微量帶電  離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達(dá)到18MΩ·cm以上。  EDI模塊進(jìn)水條件  PH值5.0～9.5 電導(dǎo)率1~20μs/cm,最佳導(dǎo)電率2～20μs/cm 總C02<5ppm 硅<0.5ppm 硬度以（CaC03計(jì)）<1.0ppm 進(jìn)水壓力0.15～0.5MPa 典型超純水工藝流程圖  應(yīng)用領(lǐng)域  超純水常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。  流程1：預(yù)處理+單級(jí)反滲透+EDI+拋光樹(shù)脂  流程2：預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+EDI+拋光樹(shù)脂  流程3：預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+混床MB+拋光樹(shù)脂  0, 0, 38, 0, 3, 44, 41, 24 Bitmap   ＥＤＩ模塊結(jié)構(gòu)特點(diǎn)  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料 　          2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜  3、采用進(jìn)口EDI專(zhuān)用均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI專(zhuān)用均粒樹(shù)脂      4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。               6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件   7、膜堆出廠最高試壓7bar不漏水                        8、膜堆電阻低、功耗小   9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)            10、最大膜堆處理水量3T/H，最小模堆處理水量75L/H  11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無(wú)死角。     進(jìn)水指標(biāo)要求   ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水  ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：＜25ppm。  ◎電導(dǎo)率：＜40μS/cm  ◎ＰH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。  ◎溫度： 5～35℃。   ◎進(jìn)水壓力：＜4bar（60psi）。  ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：＜1.0ppm。  ◎有機(jī)物（ TOC）：＜0.5ppm。   ◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。  ◎變價(jià)金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。   ◎H2S：＜0.01ppm。   ◎二氧化硅：＜0.5ppm。  ◎色度：＜5APHA。   ◎二氧化碳的總量：＜10ppm  ◎ SDI 15min：＜1.0
品牌 : 美國(guó)普耐德 ;
單機(jī)出力 : 20T（/h） ;
脫鹽率 : 95（%） ;
電導(dǎo)率 : 0.06 ;
功率 : 3（w） ;
水質(zhì) : 0.06 ;
電壓 : 380（V） ;
外形尺寸 : 100*120*195（cm） ;
出水量 : 20T/H ;
水電阻率 : 15-18.2 ;
操作壓力 : 0.1-0.4（Mpa） ;
型號(hào) : PND ;
加工定制 : 是 ;

中山市普德凈水設(shè)備有限公司—美籍華人胡世華先生于20世紀(jì)90年代在美國(guó)西雅圖創(chuàng)辦美國(guó)普耐德國(guó)際水務(wù)有限公司，至今已有20多年的歷史。普耐德EDI膜堆（塊）在全美業(yè)界已享有盛名，為美國(guó)西北部地區(qū)最具實(shí)力的EDI膜堆（塊）制造商。公司從創(chuàng)辦伊始就連續(xù)不斷地投入大量的人力、物力、財(cái)力致力于EDI膜堆（塊）、EDI設(shè)備的研發(fā)和設(shè)計(jì)，產(chǎn)品暢銷(xiāo)英國(guó)、法國(guó)、澳大利亞、阿拉伯地區(qū)等十多個(gè)國(guó)家和地區(qū)……以專(zhuān)業(yè)制造EDI膜堆（塊）、EDI設(shè)備為長(zhǎng)，我們始終秉承【專(zhuān)業(yè)、專(zhuān)心、專(zhuān)注】的制造理念，并積極掌握行業(yè)發(fā)展動(dòng)態(tài)，及時(shí)調(diào)整產(chǎn)品研發(fā)和設(shè)計(jì)的思路，使普耐德EDI膜堆（塊）始終代表著當(dāng)代最先進(jìn)的EDI技術(shù)發(fā)展方向。
 公司的產(chǎn)品包括：主產(chǎn)品-全系列EDI膜堆（塊）、全系列EDI設(shè)備；配套產(chǎn)品-全系列反滲透純凈水設(shè)備。產(chǎn)品的生產(chǎn)嚴(yán)格貫切著嚴(yán)格的“100%無(wú)質(zhì)量事故”的質(zhì)量管理體系要求，每一個(gè)EDI膜堆（塊）都要通過(guò)16個(gè)大項(xiàng)118個(gè)小項(xiàng)的產(chǎn)品檢測(cè)方可獲得產(chǎn)品合格證準(zhǔn)予出廠，并對(duì)將出廠的每一個(gè)EDI膜堆（塊）建立產(chǎn)品電子檔案，使之終身享受廠家的售后服務(wù)。公司全系列的產(chǎn)品均投保相關(guān)的產(chǎn)品責(zé)任險(xiǎn)，在EDI膜堆（塊）制造業(yè)也積累了相當(dāng)豐富的生產(chǎn)資源及生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，并獲得多項(xiàng)頂尖國(guó)際專(zhuān)利。
根據(jù)企業(yè)的全球發(fā)展戰(zhàn)略，2011年胡先生在中國(guó)控股投資的第一家EDI生產(chǎn)實(shí)體企業(yè)-中山市普德凈水設(shè)備有限公司掛牌成立，2011年起陸續(xù)從美國(guó)普耐德引進(jìn)全套最先進(jìn)的EDI膜堆（塊）生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)流程（制度）管理，從美國(guó)調(diào)來(lái)多位EDI專(zhuān)業(yè)技術(shù)人才對(duì)生產(chǎn)及管理人員進(jìn)行培訓(xùn)，并于2012年向國(guó)內(nèi)業(yè)界推出與美國(guó)普耐德同品質(zhì)的普耐德全系列EDI膜堆（塊）、普耐德全系列EDI設(shè)備、普耐德全系列反滲透純凈水設(shè)備…… 相信-來(lái)自美國(guó)的普耐德EDI膜堆（塊），以其嚴(yán)謹(jǐn)?shù)睦砟睢⒖茖W(xué)的管理、專(zhuān)業(yè)的技術(shù)、貼心的服務(wù)，必將推動(dòng)EDI超純水行業(yè)的高質(zhì)量、高速度發(fā)展。 
品牌名稱(chēng) : 普耐德
質(zhì)量控制 : 第三方