? ? ?RCA清洗法：依靠溶劑、酸、表面活性劑和水，在不破壞晶圓表面特征的情況下通過噴射、凈化、氧化、蝕刻和溶解晶片表面污染物、有機(jī)物及金屬離子污染。清洗。在每次使用化學(xué)品后都要在超純水（UPW）中徹底清洗。以下是常用清洗液及作用。

? ? ??半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備生產(chǎn)線用于PI COAT前清洗設(shè)備，描述了LCD生產(chǎn)線（以CSTN為主）上使用的PI COAT清洗設(shè)備的主要清洗藝流程及設(shè)備的主要組成部分，包括清洗、漂洗、氣刀、風(fēng)干、IR、UV清洗干燥、CP降溫、冷卻干燥等。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高端PP/PVC通風(fēng)柜/廚、CDS化學(xué)品集中供液系統(tǒng)一站式解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等行業(yè)及高等院校、研究所等等科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。 我們的每臺設(shè)備除標(biāo)準(zhǔn)化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對設(shè)備進(jìn)行人性化、個性化設(shè)計，極大限度的將客戶的想法轉(zhuǎn)化為實(shí)際應(yīng)用。能完全滿足規(guī)模化生產(chǎn)和研發(fā)需求。 天道酬勤，商道酬信！精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，真誠守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)，成為濕制程設(shè)備供應(yīng)商的典范！