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    SC-1清洗機|清洗機|蘇州晶淼半導(dǎo)體

  • 作者:蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 2016-05-26 01:41 580
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    清洗機醫(yī)療、醫(yī)學(xué)研究行業(yè):

    需要清洗的產(chǎn)品:手術(shù)器具、牙科鉆頭、擴孔器、食道鏡、支氣管鏡、直腸鏡、膀胱鏡、吸液管、玻璃容器、注射器、傳感器、試料玻璃等

    污染源:血液、凝膠體、灰塵、線頭、指紋、進入血中的污物、殘剩的處理物、蛋白

    使用清洗劑:堿性洗滌劑、中性洗滌機;消毒劑;純水、蒸餾水


    目前在 半導(dǎo)體清洗機濕式清洗制程中,主要應(yīng)用項目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項,晶圓 (濕式) 清洗制程主要是希望藉由化學(xué)藥品與清洗設(shè)備,清除來自周遭環(huán)境所附著在晶圓表面的臟污,清洗機廠家,以達到半導(dǎo)體組件電氣特性的要求與可靠度。至于臟污的來源,清洗機,不外乎設(shè)備本身材料產(chǎn)生、現(xiàn)場作業(yè)員或制程工程師人體自身與動作的影響、化學(xué)材料或制程藥劑殘留或不純度的發(fā)生,玻璃清洗機,以及制程反應(yīng)產(chǎn)生物的結(jié)果,SC-1清洗機,尤其是制程反應(yīng)產(chǎn)生物一項,更成為制程污染主要來源,因此如何改善制程中所產(chǎn)生污染,便成為清洗制程中研究主要的課題。

    過去 RCA 多槽濕式清洗一直是晶圓清洗的主要技術(shù),不過隨著近年來制程與清洗設(shè)備的演進,不但在清洗制程中不斷產(chǎn)生新的技術(shù),也隨著半導(dǎo)體后段封裝技術(shù)的演進,清洗設(shè)備也逐漸進入封裝廠的生產(chǎn)線中。以下本文即針對清洗設(shè)備與技術(shù)作一深入介紹,并分析清洗設(shè)備發(fā)展的關(guān)鍵機會及未來的發(fā)展趨勢。


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