? ? ?半導(dǎo)體清洗機(jī)濕式清洗制程中，主要應(yīng)用項(xiàng)目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項(xiàng)。至于臟污的來(lái)源，不外乎設(shè)備本身材料產(chǎn)生、現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)員或制程工程師人體自身與動(dòng)作的影響、化學(xué)材料或制程藥劑殘留或不純度的發(fā)生，晶片清洗設(shè)備，以及制程反應(yīng)產(chǎn)生物的結(jié)果，尤其是制程反應(yīng)產(chǎn)生物一項(xiàng)，酸清洗設(shè)備，更成為制程污染主要來(lái)源。

清洗常用的化學(xué)試劑

　　丙酮（ACE）：【用途】除去有機(jī)殘余物，有機(jī)顆粒；除去光刻膠。 異丙醇（IPA）：【用途】溶解丙酮，將有機(jī)殘余物溶解。 DI水：【用途】溶解異丙醇，帶走殘余物。 ? SPM: ?(H2SO4 : H2O2 : H2O）。

? ? ?特殊的電應(yīng)用和光應(yīng)用中有不斷增長(zhǎng)的提高性能的需求，清洗設(shè)備，這要求大大地改進(jìn)硅以外的許多半導(dǎo)體的制造技術(shù)。

? ? ?這些材料的例子包括鍺，因?yàn)樗懈哂赟i的電子遷移率，晶圓清洗設(shè)備，有可能與高-k柵介質(zhì)集成；加工應(yīng)力溝道Si MOSFET所需的SiGe；以及碳化硅SiC，其帶隙很寬。除了最*先進(jìn)的GaAs外，像GaN、InAs、InSb、ZnO等等一些Ⅲ-Ⅴ族半導(dǎo)體也越來(lái)越引起人們的興趣。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高端PP/PVC通風(fēng)柜/廚、CDS化學(xué)品集中供液系統(tǒng)一站式解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等行業(yè)及高等院校、研究所等等科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。 我們的每臺(tái)設(shè)備除標(biāo)準(zhǔn)化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對(duì)設(shè)備進(jìn)行人性化、個(gè)性化設(shè)計(jì)，極大限度的將客戶的想法轉(zhuǎn)化為實(shí)際應(yīng)用。能完全滿足規(guī)?；a(chǎn)和研發(fā)需求。 天道酬勤，商道酬信！精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，真誠(chéng)守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國(guó)濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)，成為濕制程設(shè)備供應(yīng)商的典范！