? ? ?就清洗媒介來(lái)說(shuō)，晶圓清洗機(jī)，濕法清洗仍然是現(xiàn)代先進(jìn)晶圓清洗工藝的主力。雖然Si技術(shù)中的清洗化學(xué)材料與最初RCA的配方相差不大，但整體工藝最明顯的改變包括：采用了非常稀釋的溶液；簡(jiǎn)化工藝；廣泛使用臭氧水。

? ? ? 在清洗工藝中，去除刻蝕后的光刻膠殘?jiān)前雽?dǎo)體行業(yè)的一大技術(shù)難點(diǎn)，尤其是經(jīng)過(guò)高濃度離子注入的光刻膠，半導(dǎo)體清洗機(jī)，注入的陽(yáng)離子和光刻膠中的碳形成很強(qiáng)的化學(xué)鍵，使光刻膠表面高度交聯(lián)，清洗機(jī)，形成一層高度致密、耐腐蝕的碳化硬殼，大大增加了光刻膠的去除難度。

? ? ??在批次清洗工藝還是在單晶圓清洗工藝中，傳統(tǒng)的浸沒(méi)清洗仍起主導(dǎo)作用。在單晶圓清洗工藝時(shí)，這一趨勢(shì)由于太陽(yáng)電池清洗技術(shù)的需求而強(qiáng)化。該技術(shù)中，由于被加工襯底的剪切數(shù)目(shear number)，可選用批次加工方法。可以使選擇氣相清洗化學(xué)過(guò)程與批次加工兼容。但同時(shí)，單晶圓清洗方法（如旋轉(zhuǎn)清洗）正推進(jìn)到高端應(yīng)用領(lǐng)域。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高端PP/PVC通風(fēng)柜/廚、CDS化學(xué)品集中供液系統(tǒng)一站式解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等行業(yè)及高等院校、研究所等等科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。 我們的每臺(tái)設(shè)備除標(biāo)準(zhǔn)化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對(duì)設(shè)備進(jìn)行人性化、個(gè)性化設(shè)計(jì)，極大限度的將客戶的想法轉(zhuǎn)化為實(shí)際應(yīng)用。能完全滿足規(guī)?；a(chǎn)和研發(fā)需求。 天道酬勤，商道酬信！精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，真誠(chéng)守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國(guó)濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)，成為濕制程設(shè)備供應(yīng)商的典范！