TiOx 平面靶

產(chǎn)品名稱

TiOx 平面靶

純度

>99.99-99.999%

相對密度

>99%

應(yīng)用領(lǐng)域

Thin film Solar、Tp、TFT-LED、OLED、Optical、LOW-E Glass

供應(yīng)商：深圳市眾誠達應(yīng)用材料科技有限公司

靶材的性能要求

? ? ? ?靶材制約著濺鍍薄膜的物理、力學(xué)性能，銅鋁合金靶材，影響鍍膜質(zhì)量，因而靶材質(zhì)量評價較為嚴格，主要應(yīng)滿足如下要求；

1)雜質(zhì)含量低，純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。

2)高致密度。高致密度靶材具有導(dǎo)電、導(dǎo)熱性好、強度高等優(yōu)點，使用這種靶材鍍膜，濺射功率小，鋁釹合金靶材，成膜速率高，薄膜不易開裂，靶材使用壽命長，鋁鈧合金靶材，而且濺鍍薄膜的電阻率低，透光率高。

3)成分與組織結(jié)構(gòu)均勻。靶材成分均勻是鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定的重要保證。

4)晶粒尺寸細小。靶的晶粒尺寸越細小，靶材，濺鍍薄膜的厚度分布越均勻，濺射速率越快。正因為靶材在性能上有上述諸多特殊要求，導(dǎo)致其制備工藝較為復(fù)雜。

靶材的主要性能要求

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

? ?通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

深圳市眾誠達應(yīng)用材料科技有限公司是一家專業(yè)從事磁控濺射靶材材料研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高新技術(shù)企業(yè)，生產(chǎn)工廠位于深圳市寶安區(qū)。工廠主要生產(chǎn)陶瓷、金屬、合金、化合物等各種濺射靶材，并為客戶提供背板與幫定服務(wù)。靶材產(chǎn)品主要應(yīng)用于薄膜太陽能、平板顯示、建筑工程玻璃、光學(xué)鍍膜、裝飾與功能鍍膜等科技領(lǐng)域。 公司靶材生產(chǎn)技術(shù)，生產(chǎn)工藝成熟，陶瓷燒結(jié)技術(shù)團隊來自于臺灣，從事陶瓷燒結(jié)生產(chǎn)40多年，掌握先進的注漿燒結(jié)工藝技術(shù)；等離子噴涂技術(shù)團隊來自于中國航天科技，從事等離子噴涂技術(shù)工作已三十余年，持有多項專利技術(shù)。經(jīng)過10多年的發(fā)展，公司已經(jīng)建成陶瓷燒結(jié)、等離子噴涂、真空熔煉、旋轉(zhuǎn)靶材幫定、水路背板等產(chǎn)品生產(chǎn)線。公司已與南開大學(xué)、武漢理工大學(xué)、華南理工大學(xué)、福州大學(xué)、深圳先進技術(shù)研究院、中國科學(xué)院等國內(nèi)多家知名院所合作，致力于新材料與新工藝的研發(fā)，持續(xù)為全球客戶提供各種高品質(zhì)的靶材產(chǎn)品與服務(wù)。