蝕刻:比較一下傳統(tǒng)機(jī)械與化學(xué)蝕刻
所謂化學(xué)蝕刻加工,即指經(jīng)過(guò)光化學(xué)反響,添加藥劑蝕刻來(lái)加工金屬零部件(如蝕刻手機(jī)金屬按件、蝕刻手機(jī)補(bǔ)強(qiáng)板等)。此法使用領(lǐng)先計(jì)算機(jī)輔助規(guī)劃之技能,VFD蝕刻技術(shù),將確定要加工的圖形先曬成若菲林,然后將菲林圖形經(jīng)過(guò)光化學(xué)反響復(fù)制到當(dāng)時(shí)需求蝕刻加工的零部件的外表上,并在其外表構(gòu)成被維護(hù)起來(lái)的金屬零件,再經(jīng)過(guò)化學(xué)蝕刻的進(jìn)程,把未維護(hù)好的金屬資料蝕刻掉就產(chǎn)生了金屬零部件。
傳統(tǒng)機(jī)械與化學(xué)蝕刻比較,化學(xué)蝕刻更占優(yōu)勢(shì)。
一是出產(chǎn)周期較短,通常三天可制作出產(chǎn)商品.
二是修正商品尺度較便利。
傳統(tǒng)的辦法有必要具有高精度的沖壓設(shè)備和模具加工設(shè)備,開發(fā)周期較長(zhǎng),需2-3月時(shí)刻,因?yàn)槲g刻法之特殊性,零件之雜亂程度與加工難易程度并無(wú)聯(lián)系;相對(duì)而言,機(jī)械沖壓辦法對(duì)雜亂的零件處置起來(lái)往往會(huì)添加制作難度,有的乃至無(wú)法加工。
蝕刻法制作僅需規(guī)劃制作菲林及感光膠等,新品開發(fā)費(fèi)用相對(duì)較少,化學(xué)蝕刻法制作的金屬零件無(wú)毛刺,準(zhǔn)確度高,蓋子蝕刻,不需改動(dòng)資料的磁特性,加工后的商品平整度不受一點(diǎn)點(diǎn)改動(dòng)。
金屬化學(xué)蝕刻加工法適用于批量大、種類多、大平而把薄型金屬資料加工和金屬制品外表技能裝修,即金屬蝕刻半腐蝕,亦適用于單件小批打樣?,F(xiàn)廣泛用于各類集成電路引線結(jié)構(gòu)、柵網(wǎng)、精細(xì)過(guò)濾網(wǎng)、喇叭網(wǎng)、編碼器碼盤、五金彈片、復(fù)印機(jī)消靜帶電、防塵網(wǎng)、煙霧報(bào)警器用防蟲網(wǎng)、五金技能品、金屬銘牌、手機(jī)按鍵、手機(jī)遮光板、補(bǔ)強(qiáng)板等商品蝕刻加工。
石家莊貝爾電子科技有限公司主要經(jīng)營(yíng):蝕刻,金屬蝕刻,不銹鋼蝕刻,蝕刻工藝,蝕刻技術(shù),蝕刻引線,蝕刻加工,蝕刻制造,微小器件加工,蝕刻制造,微小器件生產(chǎn),微小器件制造等。
除了溶液的選用外,挑選適用的屏蔽物質(zhì)亦是十分重要的,它有必要與待蝕刻資料外表有極好的附著性、并能接受蝕刻溶液的腐蝕且安穩(wěn)而不蛻變。而光阻通常是一個(gè)極好的屏蔽資料,且由于其圖畫轉(zhuǎn)印進(jìn)程簡(jiǎn)略,因而常被運(yùn)用。但運(yùn)用光阻作為屏蔽資料時(shí)也會(huì)發(fā)作邊際剝離或龜裂的景象。
邊際剝離乃由于蝕刻溶液的腐蝕,形成光阻與基材間的黏著性變差所形成的。處理的辦法則可運(yùn)用黏著促進(jìn)劑來(lái)添加光阻與基材間的黏著性,如Hexamethyl-disilazane
(HMDS)。龜裂則是由于光阻與基材間的應(yīng)力區(qū)別太大,減緩龜裂的辦法可運(yùn)用較具彈性的屏蔽原料來(lái)吸收兩者間的應(yīng)力差。
蝕刻化學(xué)反響進(jìn)程中所發(fā)生的氣泡常會(huì)形成蝕刻的不均勻性,氣泡留滯于基材上阻礙了蝕刻溶液與待蝕刻物外表的觸摸,將使得蝕刻速率變慢或阻滯,直到氣泡脫離基材外表。因而在這種情況下會(huì)在溶液中參加一些催化劑增進(jìn)蝕刻溶液與待蝕刻物外表的觸摸,并在蝕刻進(jìn)程中予于攪動(dòng)以加快氣泡的脫離。
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