詳細(xì)說明
鈦，高純鈦，鈦靶，鈦顆粒，鈦蒸發(fā)材料 
化學(xué)符號(hào)：Ti
純度：4N，5N
規(guī)格：6*6,3*3,1-15mm不規(guī)則顆粒
原子量：47.867
密度：4.5g/cm3 
熔點(diǎn)：1700℃ 
沸點(diǎn)：3287℃ 
臨界溫度：4350℃ 
電阻率/μΩ.cm：43～47 
線膨脹系數(shù)/℃-1:8.5×10-6 
汽化溫度/℃：1577 
電阻溫度系數(shù)/℃-1:3.50×10-3 
波長/nm：630 
折色率n：2.9 
消光系數(shù)k：3.3 
反射率/%：55.6 
蒸發(fā)溫度：飽和蒸汽壓為1.33Pa時(shí)為1750 
蒸發(fā)源材料：(W、Ta)(絲、片)，（C、ThO2）坩堝 
特點(diǎn)：機(jī)械強(qiáng)度大，有良好的可塑性，容易加工，有良好的抗腐蝕性能。 
用途：主要用作半導(dǎo)體材料和超高真空裝置中的吸氣材料。 

    北京石久高研金屬材料有限公司（簡稱石久高研）成立于2005年，是經(jīng)北京市科學(xué)技術(shù)委員會(huì)確認(rèn)的高新技術(shù)企業(yè)。地理位置優(yōu)越，交通便利。 自公司成立以來受到有色金屬研究總院、中國科學(xué)院、清華大學(xué)等科研院校的大力支持，并保持著長期穩(wěn)定的合作關(guān)系。 
    石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司擁有一流的鍍膜材料領(lǐng)域的專業(yè)人才，具有雄厚的研發(fā)、生產(chǎn)實(shí)力。隨著近年來高科技領(lǐng)域內(nèi)薄膜的興起和蓬勃發(fā)展，特別是微電子與光電子產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，對(duì)鍍膜材料的要求也達(dá)到了一個(gè)新的高度，公司密切關(guān)注國內(nèi)外鍍膜及鍍膜材料的發(fā)展方向，為相關(guān)行業(yè)提供先進(jìn)、優(yōu)質(zhì)的鍍膜材料。 
    目前公司主要生產(chǎn)銷售的產(chǎn)品包括金屬基、氧化物、氟化物及其它化合物類型的光學(xué)薄膜材料，主要應(yīng)用于：濺鍍膜、復(fù)合膜、彩色膜、增透膜、透紫外膜、激光裝置濾光片、保護(hù)膜、透明導(dǎo)電膜、變色膜、優(yōu)良的寬帶增透膜、磁性薄膜、可見光區(qū)增透膜、紅外增透膜、分光膜、多層膜、高反射膜、電阻膜、熱反射膜、冷光燈、冷光碗及各種鏡片鍍膜，真空鍍膜材料,陶瓷濺射靶材,金屬濺射靶材,合金濺射靶材,高純鈦氧化物,陶瓷靶材,金屬靶材,合金,高純金屬,稀貴金屬,金銀鉑鈀,銦絲,錫絲,鋁絲,各種化合物靶材,IZO,AZO,ITO,IZO,氧化鋅,氮化鈦,二硼化鋯、鈦酸鍶,二硼化鈦,二氧化鉿,氧化鋁,氮化硼,氮化鈦,氮化硅靶、碳化硅靶,多晶硅靶、二氧化硅靶,鈦靶、鎳靶、鋁靶,銅靶、鋅靶、錫靶,鋯靶、鈷靶、金靶等材料。 
   我們期待與您的精誠合作！