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          本公司技術(shù)力量雄厚，設(shè)備精良，檢測(cè)手段完備，并能根據(jù)用戶(hù)要求設(shè)計(jì)制造各種真空成套設(shè)備。真空鍍膜設(shè)備薄膜的均勻性

    真空鍍膜設(shè)備薄膜均勻性上有什么樣的一個(gè)概念，下面的內(nèi)容我們就來(lái)幫助您更好的使用學(xué)習(xí)。
    1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
    2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
    3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題，具體見(jiàn)下。
    主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)： 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。
    一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜：
    一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。
    厚度均勻性主要取決于：
    1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
    2、基片表面溫度
    3. 蒸發(fā)功率，速率
    4. 真空度
    5. 鍍膜時(shí)間，厚度大小。
    蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
    1、晶格匹配度
    2、基片溫度
    3、蒸發(fā)速率
    濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
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    產(chǎn)品價(jià)格：面議
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