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    揚(yáng)州真空鍍膜機(jī)簡介-寶來利真空機(jī)電-丹陽真空鍍膜機(jī)

  • 作者:丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司 2018-01-24 03:40 1350
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    真空鍍膜機(jī)濺鍍的原理是什么

    濺鍍,一般指的是磁控濺鍍,歸于高速低溫濺鍍法.

    該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布,即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar),并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,因?yàn)檩x光放電(glow discharge)發(fā)生的電子激起慵懶氣體,發(fā)生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子轟出,堆積在塑膠基材上.

    真空鍍膜機(jī)濺鍍的原理是什么

    以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊資料外表,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等最高,Ti,Mo,Ta,W等最低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電(glow discharge)發(fā)生,在10-1—10 Pa真空度,在兩極間加高壓發(fā)生放電,正離子會炮擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。

    正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體品種壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡也許保持其安穩(wěn)。任何資料皆可濺射鍍膜,即便高熔點(diǎn)資料也簡單濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2

    二極濺鍍射:靶材為陰極,被鍍工件及工件架為陽極,氣體(氬氣Ar)壓力約幾Pa或更高方可得較高鍍率。

    磁控濺射:在陰極靶外表構(gòu)成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而進(jìn)步離子密度,使得濺鍍率進(jìn)步(一個數(shù)量級),濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是現(xiàn)在最有用的鍍膜技能之一。

    其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技能


     鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用 
    人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
    9、 鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應(yīng)用
    薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì),有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢:由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗;磁化反轉(zhuǎn)極為迅速;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。
    為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術(shù)。
    10、鍍膜技術(shù)在傳感器方面的應(yīng)用
    在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說,極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外,其中大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì),需要盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低價格制作、因此采用薄膜的情況很多。
    11、鍍膜技術(shù)在集成電路制造中的應(yīng)用
    晶體管路中的保護(hù)層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶硅、鋁、銅及其合金)等多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見氣相沉積術(shù)制備集成電路的核心技術(shù)之一。
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           丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司是專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備、真空設(shè)備、真空鍍膜機(jī)開發(fā)和制造的民營企業(yè),公司以現(xiàn)代薄膜技術(shù)為核心,以真空技術(shù)和電子高科技為工藝保障,以人性化使用為設(shè)計準(zhǔn)繩,力求在我們的產(chǎn)品開發(fā)和設(shè)備制造上精益求精。公司將以最優(yōu)越的品質(zhì)、最熱誠的服務(wù)來回報廣大客戶,并愿與廣大用戶共同發(fā)展進(jìn)步,為我國的真空鍍膜事業(yè)做出自己的貢獻(xiàn)。
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